化学増幅型ポジ型レジスト組成物用酸発生樹脂

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：久保山隆 , 中山亨 , 榎本雅之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006351839
Publication number (International publication number)：2007197718
Application date： Dec. 27, 2006
Publication date： Aug. 09, 2007
Summary：

【課題】解像度に優れた化学増幅型ポジ型レジスト組成物を与える化学増幅型ポジ型レジスト組成物用酸発生剤となる化学増幅型ポジ型レジスト組成物用酸発生樹脂を提供する。【解決手段】高分子からなり、該高分子を構成する繰り返し単位として、放射線照射により酸を発生する塩のアニオン部分が結合した繰り返し単位であり、かつ繰り返し単位のカチオン部分以外の炭素原子間の結合がすべて一重結合である繰り返し単位を含むことを特徴とする酸発生樹脂。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

高分子からなり、該高分子を構成する繰り返し単位として、放射線照射により酸を発生する塩のアニオン部分が結合した繰り返し単位であり、かつ繰り返し単位のカチオン部分以外の炭素原子間の結合がすべて一重結合である繰り返し単位を含むことを特徴とする酸発生樹脂。

IPC (4)：

C08F 20/38 , G03F 7/004 , G03F 7/039 , C08F 32/08

FI (4)：

C08F20/38 , G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , C08F32/08

F-Term (42)：

2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BF02 , 2H025BF11 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB42 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J100AK38Q , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100AL08T , 4J100AM21P , 4J100AR11P , 4J100AR21P , 4J100BA02P , 4J100BA03R , 4J100BA11S , 4J100BA11T , 4J100BA15P , 4J100BA34P , 4J100BA56P , 4J100BB07P , 4J100BC03P , 4J100BC04P , 4J100BC08P , 4J100BC09P , 4J100BC09Q , 4J100BC12P , 4J100BC53S , 4J100BC53T , 4J100CA03 , 4J100JA00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-373598 Applicant：信越化学工業株式会社
特願2005-138351
Application number：特願2005-138351
特願2005-150156
Application number：特願2005-150156

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