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J-GLOBAL ID：200903052597740803

重合体、化学増幅型レジスト組成物、および、パターン形成方法

Inventor：
加門 良啓

About 加門 良啓

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藤原 匡之

About 藤原 匡之

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桑野 英昭

About 桑野 英昭

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百瀬 陽

About 百瀬 陽


Applicant, Patent owner：
三菱レイヨン株式会社

About 三菱レイヨン株式会社


Agent (1)： 金田 暢之 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001368904
Publication number (International publication number)：2002275215
Application date： Dec. 03, 2001
Publication date： Sep. 25, 2002
Summary：
【要約】【課題】 優れた透明性と高いドライエッチング耐性とを有し、有機溶媒に対する溶解性にも優れた重合体、遠紫外光エキシマレーザーリソグラフィーや電子線リソグラフィー等に好適な化学増幅型レジスト組成物、および、この化学増幅型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 本発明の重合体は下記式(1)で示される単量体を含むモノマー組成物を(共)重合して得られるものであり、これを含有する化学増幅型レジスト組成物を用いてレジストパターンを形成する。【化1】(式(1)中、R1、R2、R3、R4は水素原子、メチル基またはエチル基であり、X1、X2はいずれか一方が(メタ)アクリロイルオキシ基であり、もう一方が水素原子である。A1、A2はともに水素原子であるか、または、A1とA2とで-O-、-CH2-または-CH2CH2-を形成している。)
Claim (excerpt)：
下記式(1)で示される単量体を含むモノマー組成物を(共)重合して得られる重合体。【化1】(式(1)中、R1、R2、R3、R4は水素原子、メチル基またはエチル基であり、X1、X2はいずれか一方が(メタ)アクリロイルオキシ基であり、もう一方が水素原子である。A1、A2はともに水素原子であるか、または、A1とA2とで-O-、-CH2-または-CH2CH2-を形成している。)
IPC (3)：
C08F 20/28 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (3)：
C08F 20/28 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (29)：
2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB55 ,  4J100AJ02R ,  4J100AK32R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03R ,  4J100BA11P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA11R ,  4J100BC09R ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53R ,  4J100DA01 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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