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J-GLOBAL ID：200903052901180550
触覚センサー及びその製造方法
ジョン-ホ,キム
, About ジョン-ホ,キム
デ-イム,カン
, About デ-イム,カン
ヨン-キュ,パク
, About ヨン-キュ,パク
ミン-ソック,キム
About ミン-ソック,キム
Applicant, Patent owner：
コリア リサーチ インスティチュート オブ スタンダーズ アンド サイエンス
About コリア リサーチ インスティチュート オブ スタンダーズ アンド サイエンス
Agent (3)： 原 謙三 , 木島 隆一 , 金子 一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004359299
Publication number (International publication number)：2005338053
Application date： Dec. 13, 2004
Publication date： Dec. 08, 2005
Summary：
【課題】圧力と熱とを同時に感知する触覚センサー及びその製造方法を提供し、微細手術、ガン診断などの医療分野、仮想環境具現分野において触覚提示にともなう敏感度を向上する。【解決手段】ウェーハ下面に力センサーの支持ブロック形成用パターン、上面に熱センサーの圧電抵抗形成用パターンを形成し、ウェーハの上面に圧電抵抗を形成し、その上に酸化膜を蒸着し、前記圧電抵抗の上部に接触ホールを形成し、熱センサーの他側酸化膜の上にラインホール形成用パターンを形成し、前記ウェーハの上面にメタルラインと温度測定用金属線及びヒーターを形成し、前記メタルラインと温度測定用金属線及びヒーターの上部側に酸化物を蒸着し、その上に蒸着とエッチングを介して荷重ブロックを形成し、前記荷重ブロックの形成されたウェーハの下面をエッチングして、力センサーの支持ブロックを形成する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
ウェーハの下面に力センサーの支持ブロック形成用パターンを形成し、上面に熱センサーの圧電抵抗形成用パターンを形成する第1段階と;
イオン注入工程を介してウェーハの上面に圧電抵抗を形成し、その上に酸化膜を蒸着する第2段階と;
前記圧電抵抗の上部に接触ホールが形成されるようにし、熱センサーの他側酸化膜の上にラインホール形成用パターンを形成する第3段階と;
前記ウェーハの上面に金属蒸着とリフトオフ工程を介して前記接触ホール間の連結線であるメタルラインと熱センサーの温度測定用金属線及びヒーターが形成されるようにする第4段階と;
前記メタルラインと温度測定用金属線及びヒーターの上部側に酸化物を蒸着し、前記酸化物の薄膜の上に蒸着とエッチングを介して荷重ブロックを形成する第5段階と;
前記荷重ブロックの形成されたウェーハの下面をエッチングして、力センサーの支持ブロックを形成する第6段階とを含むことを特徴とする触覚センサーの製造方法。
IPC (7)：
FI (7)：
F-Term (24)：
2F051AA10
, 2F051AA17
, 2F051AB09
, 2F051DA02
, 2F076BA01
, 2F076BD08
, 2F076BD10
, 2F076BE01
, 4M112AA01
, 4M112BA01
, 4M112CA01
, 4M112CA03
, 4M112CA06
, 4M112CA07
, 4M112DA03
, 4M112DA04
, 4M112DA06
, 4M112DA08
, 4M112DA10
, 4M112EA03
, 4M112EA06
, 4M112EA07
, 4M112EA11
, 4M112FA20
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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複合機能デバイス及び触覚情報システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-245299 Applicant：キヤノン株式会社 -
物体認識再現装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-211594 Applicant：ソニー株式会社 -
触覚センサ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-030090 Applicant：オリンパス光学工業株式会社
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