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J-GLOBAL ID：200903052922864638

地下汚染領域の浄化方法及び浄化装置

Inventor：
江口 正浩

About 江口 正浩


Applicant, Patent owner：
オルガノ株式会社

About オルガノ株式会社


Agent (1)： 畑中 芳実 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000355794
Publication number (International publication number)：2002159959
Application date： Nov. 22, 2000
Publication date： Jun. 04, 2002
Summary：
【要約】【課題】 化学物質、特に有機塩素化合物で汚染された地下汚染領域を、短期間で、かつ低コスト、低エネルギーで浄化することができる方法及び装置を提供する。【解決手段】 まず、揚水手段2によって地下汚染領域X又はその付近から地下水Wを揚水する。次に、浄化手段4によって揚水した地下水の浄化処理(揚水ばっ気処理、酸化処理等)を行う。さらに、酸化剤添加手段6によって浄化処理した水に酸化剤(H2O2等)を添加する。その後、注入手段8によって酸化剤を添加した浄化処理水を再び地下汚染領域又はその付近に注入する。
Claim (excerpt)：
化学物質で汚染された地下汚染領域の浄化方法であって、地下汚染領域又はその付近から揚水した地下水の浄化処理を行うとともに、その浄化処理水に酸化剤を添加した後、該浄化処理水を再び地下汚染領域又はその付近に注入することを特徴とする地下汚染領域の浄化方法。
IPC (9)：
B09C 1/02 ,  B09C 1/08 ,  A62D 3/00 ZAB ,  B09B 3/00 ZAB ,  C02F 1/20 ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/72 ,  E02D 3/10 ,  C02F 1/00
FI (8)：
A62D 3/00 ZAB ,  C02F 1/20 Z ,  C02F 1/58 A ,  C02F 1/72 Z ,  E02D 3/10 ,  C02F 1/00 K ,  B09B 3/00 304 K ,  B09B 3/00 ZAB
F-Term (43)：
2D043DA00 ,  2D043EB06 ,  2E191BA12 ,  2E191BB01 ,  2E191BC01 ,  2E191BD11 ,  4D004AA41 ,  4D004AB06 ,  4D004AC05 ,  4D004AC07 ,  4D004CA12 ,  4D004CA35 ,  4D004CA36 ,  4D004CB05 ,  4D004CB42 ,  4D004CB43 ,  4D004CB44 ,  4D004CC03 ,  4D004CC06 ,  4D004CC11 ,  4D004CC12 ,  4D004DA02 ,  4D004DA20 ,  4D037AA01 ,  4D037AB14 ,  4D037BA23 ,  4D037BB05 ,  4D037CA11 ,  4D037CA14 ,  4D038AA02 ,  4D038AB14 ,  4D038BA04 ,  4D038BB03 ,  4D038BB13 ,  4D038BB16 ,  4D050AA02 ,  4D050AB19 ,  4D050BB09 ,  4D050BC10 ,  4D050BD03 ,  4D050BD06 ,  4D050CA03 ,  4D050CA13
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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