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J-GLOBAL ID:200903053050667423
触媒作用による水素発生
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000537795
Publication number (International publication number):2002507535
Application date: Mar. 23, 1999
Publication date: Mar. 12, 2002
Summary:
【要約】炭化水素の部分酸化および蒸気改質の自己持続型組合せによる、水素を触媒作用により発生させる方法は、炭化水素および酸素含有ガスおよび蒸気の混合物を、セリウムおよびジルコニウムの混合物である耐火性酸化物担体材料上に分散させたロジウムを含んでなる触媒と接触させることを含んでなる。炭化水素は、炭素数が1〜15である直鎖または分岐鎖炭化水素であり、メタン、プロパン、ブタン、ヘキサン、ヘプタン、n-オクタン、イソ-オクタン、ナフサ、液化石油ガスおよび改質ガソリンおよびディーゼル燃料を包含する。水素発生工程は、炭化水素および空気を供給して部分酸化を開始してから蒸気を加えることにより、開始することができる。水素発生工程は、水性ガス転化反応との組合せにより操作し、発生した水素中の一酸化炭素を低減させることができる。
Claim (excerpt):
炭化水素の自己持続型部分酸化により、触媒作用による水素を発生させる方法であって、 炭化水素と、酸素含有ガスと、所望により蒸気との混合物を、陽イオンとしてセリウムとジルコニウムとを含んでなる耐火性酸化物担体材料上に分散させたロジウムを含んでなる触媒と接触させることを含んでなる、方法。
IPC (4):
C01B 3/40
, B01J 23/63
, C01B 3/48
, H01M 8/06
FI (4):
C01B 3/40
, C01B 3/48
, H01M 8/06 G
, B01J 23/56 301 M
F-Term (26):
4G040EA03
, 4G040EA04
, 4G040EA06
, 4G040EA07
, 4G040EB27
, 4G040EB32
, 4G040EC03
, 4G040EC04
, 4G069AA03
, 4G069BA05A
, 4G069BA05B
, 4G069BB06A
, 4G069BB06B
, 4G069BC43A
, 4G069BC43B
, 4G069BC71A
, 4G069BC71B
, 4G069BC71C
, 4G069CC17
, 4G069CC26
, 4G069CC32
, 4G069DA06
, 4G069EA02Y
, 4G069FA02
, 4G069FB14
, 5H027BA01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (14)
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自立運転型の水素ジェネレーター
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平8-502931
Applicant:ジョンソンマッセイパブリックリミティドカンパニー
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特開平2-302304
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特開平2-043950
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特開昭63-147802
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特開昭59-199042
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特開昭61-247601
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特開昭62-059501
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特開平2-002879
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特開平3-109942
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合成ガスの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-282722
Applicant:出光興産株式会社
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炭化水素の接触部分酸化法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-218322
Applicant:シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ
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改良された低級炭化水素用水蒸気改質触媒
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-121442
Applicant:東洋エンジニアリング株式会社, 東洋シーシーアイ株式会社
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合成ガス製造用触媒及び合成ガスの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-105070
Applicant:日本鋼管株式会社, 藤元薫
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触媒作用による水素発生
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2000-537794
Applicant:ジョンソンマッセイパブリックリミテッドカンパニー
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