合成ガス製造用触媒及び合成ガスの製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：田中政浩
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999105070
Publication number (International publication number)：2000000466
Application date： Apr. 13, 1999
Publication date： Jan. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】低温において高い収率で合成ガスを得ることができる触媒及び製造方法を提供する。【解決手段】上記課題は、少なくともイリジウム、白金、ロジウム、またはパラジウム担持金属酸化物と固体酸性化合物のいずれかを活性成分として含有することを特徴とする、ジメチルエーテルと水蒸気から合成ガスを生成させる触媒によって解決される。

Claim (excerpt)：

少なくともイリジウム、白金、ロジウム、またはパラジウム担持金属酸化物と固体酸性化合物のいずれかを活性成分として含有することを特徴とする、ジメチルエーテルと水蒸気から合成ガスを生成させる触媒

IPC (5)：

B01J 23/46 , B01J 23/46 311 , B01J 23/42 , B01J 23/44 , C01B 3/32

FI (5)：

B01J 23/46 M , B01J 23/46 311 M , B01J 23/42 M , B01J 23/44 M , C01B 3/32 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

水素リッチガスの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-189590 Applicant：ハルドール・トプサー・アクチエゼルスカベット
合成ガス製造用触媒およびその製造方法ならびに合成ガスの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-339757 Applicant：日本鋼管株式会社
水素リッチガスを製造する方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-012330 Applicant：ハルドール・トプサー・アクチエゼルスカベット

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