光造形装置及び露光ユニット

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：中島淳 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001274360
Publication number (International publication number)：2002316363
Application date： Sep. 10, 2001
Publication date： Oct. 29, 2002
Summary：

【要約】【課題】高速且つ高精細な造形を可能とする光造形装置を提供する。【解決手段】XY位置決め機構20により露光ユニット18の第1の位置が決定されると、第1の位置に応じた所定面積の領域16の画像データに応じて、DMD28のマイクロミラー40がオンオフ制御され、光源22から光ビームが出射された光ビーム14が光ファイバ24及びホモジナイザ光学系26を介してDMD28へ入射されて、画像データに応じて各画素毎に変調される。反射ミラー32の方向に反射された光ビーム14は、集光レンズ30により集光され、反射ミラー32により光硬化性樹脂12表面の方向に反射され、光硬化性樹脂12表面の所定面積の領域16内が光ビーム14で露光されて、露光された部分が硬化する。同様にして、露光ユニット18の移動と露光とを繰り返すことにより、光硬化性樹脂12の表面全体を露光する。

Claim (excerpt)：

光硬化性樹脂を光ビームで露光して3次元モデルを造形する光造形装置であって、光硬化性樹脂の表面の複数画素を含む所定領域を、光源から出射され画像データに応じて各画素毎に変調された光ビームで露光する露光手段と、該露光手段を光硬化性樹脂の表面に対し相対移動させる移動手段と、を備えた光造形装置。

F-Term (9)：

4F213AA44 , 4F213WA25 , 4F213WA97 , 4F213WL03 , 4F213WL13 , 4F213WL42 , 4F213WL76 , 4F213WL80 , 4F213WL96

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

ステレオリソグラフ装置および使用方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-000111 Applicant：テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド
特開平3-021432
紫外レーザー光源
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-140805 Applicant：株式会社ニコン

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