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J-GLOBAL ID：200903053725432650

制御方法および制御装置

Inventor：
河西 繁

About 河西 繁

, 
近藤 修司

About 近藤 修司


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 高山 宏志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002111055
Publication number (International publication number)：2003005802
Application date： Apr. 12, 2002
Publication date： Jan. 08, 2003
Summary：
【要約】【課題】 煩雑さを伴うことなく種々のプロセス条件に応じて高精度でプロセス制御を行うことができる制御方法および制御装置を提供すること。【解決手段】 所定の制御パラメータにより所定のプロセスパラメータを制御する制御器を用いた制御方法は、予め各制御ステップ毎の最適な制御パラメータ値を求めてテーブル化する工程(ST1)と、このテーブルから制御器に対する実際の設定条件変化に対応する制御パラメータ値を選択する工程(ST2)と、制御器に設定されている制御パラメータ値を、選択工程で選択された制御パラメータ値に変更する工程(ST3)と、制御器から変更された制御パラメータに基づく制御信号を制御対象に出力する工程(ST4)とを具備する。
Claim (excerpt)：
所定の制御パラメータにより所定のプロセスパラメータを制御する制御器を用いた制御方法であって、予め各制御ステップ毎の最適な制御パラメータ値を求めてテーブル化する工程と、前記テーブルから前記制御器に対する実際の設定条件変化に対応する制御パラメータ値を選択する工程と、前記制御器に設定されている制御パラメータ値を、前記選択工程で選択された制御パラメータ値に変更する工程と、前記制御器から前記変更された制御パラメータに基づく制御信号を制御対象に出力する工程とを具備することを特徴とする制御方法。
IPC (3)：
G05B 13/02 ,  G05B 11/36 501 ,  H01L 21/205
FI (3)：
G05B 13/02 B ,  G05B 11/36 501 F ,  H01L 21/205
F-Term (22)：
5F045AA06 ,  5F045BB10 ,  5F045EE01 ,  5F045EE17 ,  5F045GB16 ,  5H004GA22 ,  5H004GB20 ,  5H004HA03 ,  5H004HB03 ,  5H004JA04 ,  5H004JA07 ,  5H004JB01 ,  5H004KA44 ,  5H004KA78 ,  5H004KB09 ,  5H004KB19 ,  5H004KC48 ,  5H004KC52 ,  5H004LA02 ,  5H004LA03 ,  5H004LA05 ,  5H004LA11
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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