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J-GLOBAL ID：200903095111084455

ガス系の制御方法及びその装置

Inventor： 小美野 光明 ,  内澤 修 ,  千葉 康広
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社 ,  株式会社本山製作所
Agent (1)： 中本 菊彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998213667
Publication number (International publication number)：1999154026
Application date： Jul. 29, 1998
Publication date： Jun. 08, 1999
Summary：

【要約】【課題】 使用するガスの流れの有無による流量負荷等の各状態に応じてガスの温度又は圧力等を制御すること。【解決手段】 処理室6内に所定のガスを供給する供給管路2a〜2dに介設されてガスの流れの有無による流量負荷を検知する流量センサ41,42と、ガスの流れの有無による流量負荷に応じた制御定数を予め記憶するCPU40とを設ける。流量センサ41,42及び又はIPA供給ポンプ43によってガスの流れの有無による流量負荷及び又はIPAの流れを検知し、その検知信号をCPU40に伝達すると共に、CPU40からの制御信号に基づいてカートリッジヒータ14,内筒及び外筒ヒータ25,26及び保温ヒータ62を制御する。

Claim (excerpt)：

所定のガスの流れの有無による流量負荷に応じた制御定数を予め記憶しておき、上記ガスの流れの有無による上記流量負荷の検知信号に基づき、上記制御定数を選択して上記ガスの温度を制御することを特徴とするガス系の制御方法。

IPC (9)：

G05D 23/00 ,  G05B 13/02 ,  G05D 11/16 ,  G05D 16/20 ,  G05D 23/19 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/304 645 ,  H01L 21/304 651 ,  H01L 21/3065

FI (9)：

G05D 23/00 B ,  G05B 13/02 B ,  G05D 11/16 ,  G05D 16/20 A ,  G05D 23/19 E ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/304 645 B ,  H01L 21/304 651 H ,  H01L 21/302 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• リフロー装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-232703   Applicant：松下電器産業株式会社
• プロセスの制御方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-098273   Applicant：東京瓦斯株式会社, 山武ハネウエル株式会社
• 特開平2-039309