遠紫外線露光用感光性樹脂組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：京本直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993174532
Publication number (International publication number)：1995028237
Application date： Jul. 14, 1993
Publication date： Jan. 31, 1995
Summary：

【要約】 (修正有)【構成】下記一般式(1)に示すアルキルスルホニウム塩(R1 およびR2 は炭素数1ないし8の直鎖状、分枝状、又は環状アルキル基、R3 は炭素数1ないし8の直鎖状、分枝状、または環状のアルキル基、炭素数5ないし7の2-オキソ環状アルキル基、あるいは炭素数3ないし8の2-オキソ直鎖状または分枝状アルキル基、Y- は対イオン)を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。および当該感光性樹脂組成物の薄膜を基板上に形成し、波長が220nm以下の光を露光光とすることで微細パターンを得ることを特徴とするパターン形成方法。【効果】本発明の感光性樹脂組成物は、波長が220nm以下の遠紫外光に対し高透明性を有し、高感度で形状の良い微細パターンを形成することから、遠紫外線、例えばArFエキシマレーザ(193.3nm)露光用化学増幅型レジストとして有用である。

Claim (excerpt)：

下記の一般式(I)で表されるアルキルスルホニウム塩を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。【化1】(ただし、R1 およびR2 は直鎖状、分枝状、または環状のアルキル基、R3 は直鎖状、分枝状、または環状のアルキル基、2-オキソ環状アルキル基、あるいは2-オキソ直鎖状または分枝状アルキル基、Y- は対イオンを表す。)

IPC (8)：

G03F 7/029 , C08F 20/18 MMG , C08K 5/372 KBS , G03F 7/004 503 , G03F 7/039 501 , G03F 7/20 502 , G03F 7/20 505 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平3-095556
アルキルスルホニウム塩
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-174528 Applicant：日本電気株式会社
特開平3-148257

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