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J-GLOBAL ID：200903053847633257

複数ビーム書込装置

Inventor：
茂木 伸

About 茂木 伸


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 日比谷 征彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995348630
Publication number (International publication number)：1997164722
Application date： Dec. 18, 1995
Publication date： Jun. 24, 1997
Summary：
【要約】【目的】 安定した濃度品質で複数ビーム書き込み動作を行うことができる。【構成】 複数ビーム半導体レーザー光源10からのレーザー光は主走査及び副走査方向に分離されて感光体ドラム等に光走査書込みが行われる。そして、複数のレーザー光は走査毎に同期検知センサにより同期検知され、同時にレーザー発光動作も行われ、このとき複数ビーム半導体レーザー光源10内に配置された1個のフォトダイオード14を使用してレーザー光量を一定にするためのAPC動作が行われる。即ち、キャップ15の窓16を通してレーザーチップ13から正面側に発する書込用レーザー光La、Lbに対応して発せられるレーザーチップ13の背面光La’、Lb’光量をモニタしてAPC動作により光量補正を行う。
Claim (excerpt)：
複数の発光点と、該発光点からの複数のレーザー光を同時に偏向走査する偏向器と、光学レンズを具備して前記複数のレーザー光を同時に走査する走査光学系と、光量補正手段とを有する複数ビーム書込装置において、書込走査時の前記光量補正手段による光量補正は、前記複数のレーザー光による走査毎に1つのビームの書込光量に対して行うことを特徴とする複数ビーム書込装置。
IPC (5)：
B41J 2/44 ,  G02B 26/10 ,  H01S 3/103 ,  H04N 1/113 ,  H04N 1/23 103
FI (6)：
B41J 3/00 D ,  G02B 26/10 B ,  G02B 26/10 Z ,  H01S 3/103 ,  H04N 1/23 103 C ,  H04N 1/04 104 Z
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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