低速陽電子ビーム発生方法及び装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：平木祐輔 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997010602
Publication number (International publication number)：1998206597
Application date： Jan. 23, 1997
Publication date： Aug. 07, 1998
Summary：

【要約】【課題】モデレータに損傷を与えることなく、測定の雑音となる要因を抑制した状態で高強度の低速陽電子ビームを発生する。【解決手段】陽電子放出体生成部10で液体ターゲットに荷電粒子11を照射して陽電子放出体を生成する。液体ターゲットを配管22,23によりコレクター31に導き、陽電子放出体をコレクター上に捕集する。陽電子放出体を捕集したコレクター31(32)をコレクター移動機構50により低速陽電子ビーム発生部70のモデレータの近傍に移送することにより、低速陽電子ビーム71を発生する。

Claim (excerpt)：

液体ターゲットに荷電粒子を照射して陽電子放出体を生成させ、生成した陽電子放出体を含有する前記液体より陽電子放出体をコレクター上に捕集し、陽電子放出体を捕集した前記コレクターをモデレータの近傍に移送することを特徴とする低速陽電子ビーム発生方法。

IPC (3)：

G21G 1/10 , G21K 5/02 , G21K 5/08

FI (3)：

G21G 1/10 , G21K 5/02 R , G21K 5/08 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

低速陽電子ビーム発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-060479 Applicant：株式会社島津製作所
特開平4-077699
特公昭49-032517

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