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J-GLOBAL ID:200903053959407799
窒素酸化物除去用光触媒
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001289622
Publication number (International publication number):2003093877
Application date: Sep. 21, 2001
Publication date: Apr. 02, 2003
Summary:
【要約】【課題】本発明は、各種用途に適用可能な光触媒に関するものであり、特に太陽光等を利用して、効率的に大気中の窒素酸化物を除去することのできる窒素酸化物除去用光触媒に関するものである。【解決手段】本発明は、光照射により大気中の窒素酸化物除去に適した光触媒であって、光半導性を有した光触媒基材に、酸化鉄が0.1〜3.0質量%含有せしめることを特徴とする窒素酸化物除去用光触媒である。
Claim (excerpt):
光半導性を有した光触媒基材に、酸化鉄を0.1〜3質量%含有せしめることを特徴とする窒素酸化物除去用光触媒。
IPC (4):
B01J 23/745
, B01D 53/86
, B01D 53/94
, B01J 23/74 ZAB
FI (4):
B01J 23/74 ZAB
, B01J 23/74 301 A
, B01D 53/36 J
, B01D 53/36 102 C
F-Term (37):
4D048AA06
, 4D048BA03X
, 4D048BA05Y
, 4D048BA06Y
, 4D048BA07X
, 4D048BA08X
, 4D048BA11Y
, 4D048BA16Y
, 4D048BA36X
, 4D048BA41X
, 4D048BA42X
, 4D048BB01
, 4D048EA01
, 4G069AA03
, 4G069BA01A
, 4G069BA01B
, 4G069BA02A
, 4G069BA04A
, 4G069BA04B
, 4G069BA05A
, 4G069BA05B
, 4G069BA07A
, 4G069BA08A
, 4G069BA20A
, 4G069BA20B
, 4G069BA48A
, 4G069BB04A
, 4G069BB04B
, 4G069BB06A
, 4G069BC35A
, 4G069BC66A
, 4G069BC66B
, 4G069CA02
, 4G069CA13
, 4G069EA01Y
, 4G069EC02Y
, 4G069FC08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
-
汚染物質の除去方法及び浄化材
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-040488
Applicant:工業技術院長, 富士電機株式会社
-
光触媒シリカゲルおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-319082
Applicant:工業技術院長, 垰田博史, 渡辺栄次, 野浪亨, 深谷光春, 加藤一実, 新東工業株式会社
-
塗装体及び塗装体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-258145
Applicant:積水樹脂株式会社
-
水素発生用硫化カドミウム系光触媒の製造方法とそれによる水素の製造方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2001-504504
Applicant:チョングカンパニーリミテッド, コリアリサーチインスティテュートオブケミカルテクノロジー
-
悪臭ガス処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-307903
Applicant:コリアインスティチュートオブサイエンスアンドテクノロージ
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