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J-GLOBAL ID：200903054030880054

プラズマ発生装置およびこれを用いた成膜方法

Inventor：
羽場 方紀

About 羽場 方紀


Applicant, Patent owner：
ダイヤライトジャパン株式会社

About ダイヤライトジャパン株式会社


Agent (1)： 岡田 和秀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005115560
Publication number (International publication number)：2006291319
Application date： Apr. 13, 2005
Publication date： Oct. 26, 2006
Summary：
【課題】簡易に長尺なプラズマ柱を長期に渡り安定してコイル内に閉じ込めた状態に発生維持させることができる新規かつ画期的なプラズマ発生装置を提供すること。【解決手段】チャンバ12内にコイル18を配置し、チャンバ12内を所定の圧力とガス雰囲気下に設定し、コイル18の一端側に直流電源20の負電位を印加し、チャンバ12内空間の電位を直流電源20の正電位と実質同電位の状態に設定する構成。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
減圧されかつプラズマ発生用ガス雰囲気下のチャンバ内に、周壁の一端側から他端側に1つないし複数の連続ないしは独立した開孔を有する導電性の筒状体を配置し、この筒状体の一端側に直流電源の負電位を印加すると共に前記筒状体外で前記チャンバ内の空間に前記直流電源の正電位と実質同電位を印加する、ことを特徴とするプラズマ発生装置。
IPC (3)：
C23C 16/503 ,  C23C 16/26 ,  H05H 1/24
FI (3)：
C23C16/503 ,  C23C16/26 ,  H05H1/24
F-Term (6)：
4K030AA09 ,  4K030BA27 ,  4K030CA02 ,  4K030CA13 ,  4K030FA01 ,  4K030KA30
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (2)
  • プラズマCVD装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-262296   Applicant：ソニー株式会社
  • 複合被覆電線の製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-013159   Applicant：矢崎総業株式会社

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