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J-GLOBAL ID：200903054033602632

薄膜パタ-ンの製造方法および微細構造体

Inventor：
関 俊一

About 関 俊一


Applicant, Patent owner：
セイコーエプソン株式会社

About セイコーエプソン株式会社


Agent (1)： 稲葉 良幸 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000099930
Publication number (International publication number)：2001284798
Application date： Mar. 31, 2000
Publication date： Oct. 12, 2001
Summary：
【要約】【目的】 薄膜のパターンが基板上に高い密着性を持って形成し得るパターニング方法を提供する。【解決手段】 基板11にフルオロ基を有する有機分子膜パターンを形成する工程と、フルオロ基を有する有機分子膜パターンのフルオロ基を有する膜が無い部分に、チオール系カップリング剤からなる有機分子膜を選択的に形成する工程と、フルオロ基を有する有機分子膜及びチオール系カップリング剤からなる有機分子膜から構成されるパターン12上に金属薄膜を形成するための材料を含む溶液を供給し、チオール基を有する有機分子膜上に、金属薄膜13を選択的に形成する工程を具備する。
Claim (excerpt)：
基板に有機分子膜からなるパターンを形成し、該有機分子膜パターン上に薄膜を形成するための溶液を供給し、該有機分子膜パターン上に前記薄膜を選択的に形成することを特徴とする薄膜パターンの製造方法。
IPC (5)：
H05K 3/38 ,  B05D 5/12 ,  B05D 7/24 302 ,  B41J 2/01 ,  H01B 13/00 503
FI (5)：
H05K 3/38 B ,  B05D 5/12 B ,  B05D 7/24 302 Z ,  H01B 13/00 503 D ,  B41J 3/04 101 Z
F-Term (31)：
2C056FB05 ,  2C056FC01 ,  2C056HA46 ,  4D075AB01 ,  4D075AE02 ,  4D075CA13 ,  4D075CA22 ,  4D075DA06 ,  4D075DB11 ,  4D075DB13 ,  4D075DC21 ,  4D075DC24 ,  4D075EA07 ,  4D075EC08 ,  4D075EC10 ,  4D075EC45 ,  5E343AA01 ,  5E343AA11 ,  5E343AA22 ,  5E343AA38 ,  5E343BB15 ,  5E343BB60 ,  5E343CC21 ,  5E343CC56 ,  5E343CC61 ,  5E343DD12 ,  5E343EE08 ,  5E343ER12 ,  5E343ER18 ,  5E343GG01 ,  5G323CA05
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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