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J-GLOBAL ID：200903054199827608

プラズマ処理方法および装置

Inventor： 椿 武士 ,  中田 健二 ,  田村 直行 ,  山本 秀之 ,  平野 裕義 ,  坂口 正道
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立笠戸エンジニアリング株式会社
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995304068
Publication number (International publication number)：1997148418
Application date： Nov. 22, 1995
Publication date： Jun. 06, 1997
Summary：

【要約】【課題】プロセス処理終了後は、静電吸着保持力を減衰させ、次ウエハとの交換を行なうための搬送を直ちに行なうための静電吸着解除処理が必要であった。この静電吸着解除処理が不十分な場合、または余分な静電吸着解除処理による再吸着保持が発生する場合、ウエハが試料台に保持されたままの状態でウエハの交換が行なわれ、場合によっては正常なウエハの搬送が行なえない可能性があった。【解決手段】試料の電圧を測定することにより静電吸着保持中と静電吸着解除処理実行中の試料台と試料の間の電位差を算出し、その算出値をオペレータ設定の値と比較して試料と試料台の離脱を確認する。その後、試料の搬送を実行する。

Claim (excerpt)：

真空室内にプラズマを発生させるとともに、試料台に静電吸着電圧を印加して前記試料台に配置した試料を静電吸着保持し、前記プラズマによって前記試料を処理するプラズマ処理方法において、前記試料台と前記試料の間の電位差を測定することにより静電吸着解除処理実行中に前記試料台と前記試料の離脱が確認できることを特徴とするプラズマ処理方法。

IPC (5)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/15 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/46

FI (5)：

H01L 21/68 R ,  B23Q 3/15 D ,  C23F 4/00 A ,  H05H 1/46 C ,  H01L 21/302 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平4-162443
  
• 静電吸着装置の保持状態確認方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-001939   Applicant：株式会社日立製作所
• 特開平4-099340
  
• 静電チヤツク
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-291073   Applicant：富士通株式会社