ガス分析方法及びガス分析装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：志賀正武 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997091158
Publication number (International publication number)：1998281988
Application date： Apr. 09, 1997
Publication date： Oct. 23, 1998
Summary：

【要約】【課題】 NH3、SiH4のような吸収干渉がある被測定ガス中の不純物を高感度、高精度で分析するための方法と装置の提供。【解決手段】測定用レーザ光源1と、主成分ガス中の不純物を測定すべき被測定ガスを入れるサンプルセル2と、不純物を含まない主成分ガスであるキャンセル用ガスを入れるキャンセル用セル3と、光源からのレーザ光を第1のレーザ光と第2のレーザ光とに分岐し、該第1のレーザ光を前記サンプルセルに入射するとともに、第2のレーザ光を前記キャンセル用セルに入射する光分岐手段4と、各セルから出射した光の強度を測定する第1,第2の検出器5,6とを備えた光学系と;サンプルセル内に被測定ガスを供給するガス供給手段と;第1の検出器の測定結果を第2の検出器の測定結果から差し引くことにより、被測定ガス中の不純物の吸収スペクトルを算出する処理手段とを備えたガス分光分析装置、およびそれを用いたガス分析方法。

Claim (excerpt)：

測定用レーザ光を第1のレーザ光と第2のレーザ光とに分岐し、第1のレーザ光を、主成分ガス中の不純物を測定すべき被測定ガスを入れたサンプルセルを通しその光強度を測定する第1の光路と、第2のレーザ光を、不純物を含まない主成分ガスであるキャンセル用ガスを入れたキャンセル用セルを通しその光強度を測定する第2の光路とにそれぞれ入射し、第1の光路の測定結果を第2の光路の測定結果から差し引くことにより、被測定ガス中の不純物の吸収スペクトルを測定するガス分析方法であって、前記第1の光路と第2の光路の光路長を同一にし、かつ前記サンプルセル内のガス圧と、キャンセル用セル内のガス圧とを同一にしながら測定を行うことを特徴とするガス分析方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開昭63-009842
特開平1-156637
ガス分析計
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-023187 Applicant：株式会社堀場製作所

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