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J-GLOBAL ID：200903054511378336

静電マイクロアクチュエータの製造方法

Inventor：
下河辺 明

About 下河辺 明

, 
秦 誠一

About 秦 誠一


Applicant, Patent owner：
東京工業大学長

About 東京工業大学長


Agent (1)： 杉村 暁秀 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999183753
Publication number (International publication number)：2001009798
Application date： Jun. 29, 1999
Publication date： Jan. 16, 2001
Summary：
【要約】【課題】 垂直方向への大きな駆動が可能であるとともに、駆動力の発生点が駆動中において変化することのない、新たな静電マイクロアクチュエータを製造する方法を提供する。【解決手段】 基板1と、基板電極絶縁層2と、基板電極3と、駆動電極絶縁層5と、過冷却液体域を有する非晶質材料からなる平面電極11とがこの順に積層されてなるアセンブリを設置治具12に上下逆向きに設置する。そして、平面電極11を前記非晶質材料の過冷却液体域に加熱することにより軟化させ、平面電極11自身の自重によって下方に向かって変形させる。これによって、螺旋状の駆動電極14を得、静電マイクロアクチュエータを完成させる。
Claim (excerpt)：
過冷却液体域を有する非晶質材料からなる薄膜を所定の基板上に形成する工程と、前記薄膜をエッチングすることにより渦巻状の平面電極を形成する工程と、前記平面電極を前記非晶質材料の過冷却液体域まで加熱し、前記平面電極を立体的に変形させて螺旋状の駆動電極を形成する工程と、を含むことを特徴とする、静電マイクロアクチュエータの製造方法。
IPC (3)：
B81C 1/00 ,  B66F 1/00 ,  B81B 3/00
FI (3)：
B81C 1/00 ,  B66F 1/00 ,  B81B 3/00
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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