Pat
J-GLOBAL ID:200903054529420984
酸素還元方法、酸素還元部材、微生物の増殖を抑制する方法および微生物の増殖を抑制する部材
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
細田 益稔 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001083306
Publication number (International publication number):2002273238
Application date: Mar. 22, 2001
Publication date: Sep. 24, 2002
Summary:
【要約】【課題】 光エネルギーを利用することで酸素を還元することが可能な酸素還元方法および酸素還元部材を提供する。【解決手段】 光照射時に励起されて電子を生成する光励起半導体と、光励起半導体の伝導帯の電位よりも正の酸化還元電位を有する酸化還元材料とを使用する。光照射時には光励起半導体からの電子を酸化還元材料に供給して酸化還元材料を還元する。非照射時には酸化還元材料からこの酸化還元材料の周囲の酸素へと電子を注入することによって酸素を還元する。
Claim (excerpt):
酸素を還元する方法であって、光照射時に励起されて電子を生成する光励起半導体と、前記光励起半導体の伝導帯の電位よりも正の酸化還元電位を有する酸化還元材料とを使用し、光照射時には前記光励起半導体からの電子を前記酸化還元材料に供給して前記酸化還元材料を還元し、非照射時には前記酸化還元材料からこの酸化還元材料の周囲の酸素へと電子を注入することによって前記酸素を還元することを特徴とする、酸素還元方法。
IPC (4):
B01J 35/02
, A01N 59/00
, C23C 28/04
, C23C 30/00
FI (4):
B01J 35/02 J
, A01N 59/00 A
, C23C 28/04
, C23C 30/00 C
F-Term (36):
4G069AA02
, 4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069BA02B
, 4G069BA04B
, 4G069BA48A
, 4G069BB04B
, 4G069BB06B
, 4G069BC60B
, 4G069CA08
, 4G069CA11
, 4G069DA05
, 4G069FA03
, 4G069FB23
, 4H011AA02
, 4H011BA01
, 4H011BB18
, 4H011BC18
, 4H011DA13
, 4H011DC11
, 4H011DD07
, 4K044AA01
, 4K044AA16
, 4K044AB10
, 4K044BA12
, 4K044BA14
, 4K044BA17
, 4K044BA18
, 4K044BA19
, 4K044BB01
, 4K044BB02
, 4K044BB08
, 4K044BB11
, 4K044BC02
, 4K044BC14
, 4K044CA53
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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4,4′-ジピリジニウム塩の製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-052115
Applicant:新技術事業団, 雜賀哲行
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光触媒性親水性部材及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-324654
Applicant:東陶機器株式会社
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薄膜半導体光触媒素子とこれを用いた反応装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-114096
Applicant:渡辺政廣, 内田裕之
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