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J-GLOBAL ID：200903054630671629

電子材料用洗浄水

Inventor： 森田 博志 ,  水庭 哲夫 ,  井田 純一
Applicant, Patent owner： 栗田工業株式会社
Agent (1)： 内山 充
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997355180
Publication number (International publication number)：1999186207
Application date： Dec. 24, 1997
Publication date： Jul. 09, 1999
Summary：

【要約】【課題】薬剤を用いることなく電子材料用洗浄水のpHを調整して洗浄効果を高めるとともに、ユースポイントで使用されなかった余剰の電子材料用洗浄水を超純水の原水として利用するとき、余剰の洗浄水の脱イオンが不要で、回収、再利用の容易な電子材料用洗浄水を提供する。【解決手段】酸化剤又は還元剤と炭酸とを含有することを特徴とする電子材料用洗浄水。

Claim (excerpt)：

酸化剤又は還元剤と炭酸とを含有することを特徴とする電子材料用洗浄水。

IPC (5)：

H01L 21/304 647 ,  B08B 3/08 ,  C11D 7/02 ,  C11D 7/08 ,  C11D 7/10

FI (5)：

H01L 21/304 647 ,  B08B 3/08 Z ,  C11D 7/02 ,  C11D 7/08 ,  C11D 7/10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• ウエット処理方法および処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-184892   Applicant：大見忠弘
• ウエット処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-056110   Applicant：日本電気株式会社
• 特開平3-296490
  
• 電子部品部材類の洗浄方法及び洗浄装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-303626   Applicant：オルガノ株式会社, 株式会社フロンテック
• 特開平3-296490
  
• 特開平3-296490