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J-GLOBAL ID:200903054743529942

テーパ形状の形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 曾我 道照 (外6名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000047770
Publication number (International publication number):2001235873
Application date: Feb. 24, 2000
Publication date: Aug. 31, 2001
Summary:
【要約】【課題】 フォトリソグラフィ法のみを用いた高精度なテーパ形状の形成方法を得る。【解決手段】 感光層3を有する基板1上に3次元のテーパ形状を形成する方法において、基板と感光層との間に反射防止膜2を形成する第1のステップと、光遮断部分4bを有するマスク4を介して、基板に対して光軸が傾斜された光線5により感光層を露光する第2のステップと、感光層の露光部分3aまたは非露光部分3bの一方を除去してテーパ形状を得る第3のステップとを含む。
Claim (excerpt):
感光層を有する基板上に3次元のテーパ形状を形成する方法において、前記基板と前記感光層との間に反射防止膜を形成する第1のステップと、光遮断部分を有するマスクを介して、前記基板に対して光軸が傾斜された光線により前記感光層を露光する第2のステップと、前記感光層の露光部分または非露光部分の一方を除去してテーパ形状を得る第3のステップとを含むことを特徴とするテーパ形状の形成方法。
IPC (6):
G03F 7/20 501 ,  C25D 5/02 ,  C25D 7/12 ,  G03F 7/11 503 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/027
FI (8):
G03F 7/20 501 ,  C25D 5/02 D ,  C25D 7/12 ,  G03F 7/11 503 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/30 514 C ,  H01L 21/30 574 ,  H01L 21/30 576
F-Term (33):
2H025AB14 ,  2H025AB17 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC31 ,  2H025DA34 ,  2H025DA40 ,  2H025FA03 ,  2H025FA04 ,  2H025FA39 ,  2H096AA28 ,  2H096AA30 ,  2H096BA01 ,  2H096CA05 ,  2H096EA12 ,  2H096EA30 ,  2H097BB03 ,  2H097CA13 ,  2H097LA10 ,  4K024AA09 ,  4K024AB08 ,  4K024BA09 ,  4K024BB12 ,  4K024FA05 ,  4K024GA16 ,  5F046CB25 ,  5F046CC01 ,  5F046DA12 ,  5F046PA05 ,  5F046PA06 ,  5F046PA07
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 微細加工方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-010763   Applicant:株式会社日立製作所
  • 特開昭57-200042
  • 微細構造体の形成方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-000106   Applicant:住友電気工業株式会社
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