導電性コーティング膜の形成方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002375941
Publication number (International publication number)：2004207558
Application date： Dec. 26, 2002
Publication date： Jul. 22, 2004
Summary：

【課題】インクジェット方式により金属コロイド溶液を塗布した後、加熱や光などの特別な処理を施すことなく、導電性コーティング膜を形成する方法を提供する。【解決方法】金属コロイド溶液をインクジェット方式により基材に塗布して、導電性コーティング膜を得る方法において、上記塗布が行われる基材表面にインクジェットインク用受容層が形成されており、塗布後の乾燥が100°C以下で行われることを特徴とする導電性コーティング膜の形成方法。

Claim (excerpt)：

金属コロイド溶液をインクジェット方式により基材に塗布して、導電性コーティング膜を得る方法において、前記塗布が行われる基材表面にインクジェットインク用受容層が形成されており、塗布後の乾燥が100°C以下で行われることを特徴とする導電性コーティング膜の形成方法。

IPC (2)：

H05K3/10 , B41J2/01

FI (2)：

H05K3/10 D , B41J3/04 101Z

F-Term (12)：

2C056FB05 , 2C056FD10 , 5E343AA02 , 5E343BB25 , 5E343BB72 , 5E343BB75 , 5E343CC22 , 5E343CC52 , 5E343DD12 , 5E343EE39 , 5E343FF05 , 5E343GG11

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

導電膜パターンの形成方法および電気光学装置、電子機器
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-197801 Applicant：セイコーエプソン株式会社
透光性導電膜の製造方法及び透光性導電膜
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-121907 Applicant：住友大阪セメント株式会社

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