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J-GLOBAL ID：200903054793928058

多孔質微粒子の製造方法

Inventor： 広門 孝雄 ,  中村 亮輔 ,  木下 暢
Applicant, Patent owner： 住友大阪セメント株式会社
Agent (7)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004024714
Publication number (International publication number)：2005213122
Application date： Jan. 30, 2004
Publication date： Aug. 11, 2005
Summary：

【課題】 多孔質微粒子を簡単な装置を用いて容易に製造することができ、この多孔質微粒子の粒径を容易に制御することができ、しかも、空孔率の高い多孔質微粒子を容易に得ることができる多孔質微粒子の製造方法を提供する。【解決手段】 微粒子の前駆体と、界面活性剤及び触媒(または、触媒作用を有する界面活性剤)と、無機塩とを、水を含む溶媒中にて反応させて界面活性剤が微粒子中に充填されたコロイド状微粒子を生成し、次いで、このコロイド状微粒子から界面活性剤を除去し、多孔質状の微粒子とすることを特徴とする。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

微粒子の前駆体、界面活性剤、触媒および無機塩を、水を含む溶媒中にて反応させて前記界面活性剤が微粒子中に充填されたコロイド状微粒子を生成し、 次いで、前記コロイド状微粒子から前記界面活性剤を除去し、多孔質状の微粒子とすることを特徴とする多孔質微粒子の製造方法。

IPC (1)：

C01B33/12

FI (1)：

C01B33/12 Z

F-Term (8)：

4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072BB15 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072KK15 ,  4G072KK17 ,  4G072LL06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• メソポーラス物質
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-369459   Applicant：旭化成株式会社
• シリカ系微粒子、該微粒子分散液の製造方法、および被膜付基材
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-048277   Applicant：触媒化成工業株式会社

Cited by examiner (3)

• メソポーラス物質
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-369459   Applicant：旭化成株式会社
• メソポーラスシリカおよびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-220190   Applicant：日本化学工業株式会社
• 特開昭62-207710
  

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Effect of inorganic salt addition during synthesis on pore structure and hydrothermal stability of m