Pat
J-GLOBAL ID:200903054861131171
SiC単結晶の製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
石田 敬
, 鶴田 準一
, 西山 雅也
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003119952
Publication number (International publication number):2004323293
Application date: Apr. 24, 2003
Publication date: Nov. 18, 2004
Summary:
【課題】温度勾配を用いずに安定してSiC単結晶を製造する方法を提供する。【解決手段】原料粉末を種結晶に接触させて常温または加熱下にて加圧し、得られた圧粉体を常圧下で熱処理する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
原料粉末を種結晶に接触させて常温にて加圧し、得られた圧粉体を常圧下で熱処理することを特徴とするSiC単結晶の製造方法。
IPC (4):
C30B29/36
, C30B1/04
, C30B1/12
, H01L21/208
FI (4):
C30B29/36 A
, C30B1/04
, C30B1/12
, H01L21/208 Z
F-Term (17):
4G077AA02
, 4G077BE08
, 4G077CA04
, 4G077CA09
, 4G077EB05
, 4G077HA06
, 4G077JA06
, 4G077JA08
, 4G077JB02
, 4G077JB04
, 4G077JB07
, 5F053DD02
, 5F053FF01
, 5F053GG01
, 5F053HH01
, 5F053HH04
, 5F053PP20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
-
単結晶SiC及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-315126
Applicant:日本ピラー工業株式会社
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単結晶SiC及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-315124
Applicant:日本ピラー工業株式会社
-
炭化珪素単結晶の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-221099
Applicant:株式会社デンソー, 株式会社豊田中央研究所
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