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J-GLOBAL ID：200903055140291999

ポジ型感光性組成物

Inventor：
児玉 邦彦

About 児玉 邦彦

, 
佐藤 健一郎

About 佐藤 健一郎


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001157366
Publication number (International publication number)：2002323767
Application date： May. 25, 2001
Publication date： Nov. 08, 2002
Summary：
【要約】【課題】輪帯照明を用いた際にデフォーカスラチチュードが広く、ハーフトーン位相シフトマスクを用いてパターン形成した際にサイドローブが発生し難いポジ型感光性組成物、また、加えて経時保存時にパーティクルが発生し難いポジ型感光性組成物を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する酸発生剤、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、(C)塩基性化合物、及び(D)フッ素及び/又はシリコン系界面活性剤を含有し、且つ(A)酸発生剤が、トリアリールスルフォニウム塩を少なくとも1種及びフェナシルスルフォニウム塩構造を有する化合物を少なくとも1種含有する混合物であることを特徴とするポジ型感光性組成物。
Claim (excerpt)：
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する酸発生剤、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、(C)塩基性化合物、及び(D)フッ素及び/又はシリコン系界面活性剤を含有し、且つ(A)酸発生剤が、トリアリールスルフォニウム塩を少なくとも1種及びフェナシルスルフォニウム塩構造を有する化合物を少なくとも1種含有する混合物であることを特徴とするポジ型感光性組成物。
IPC (8)：
G03F 7/039 601 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/36 ,  C08L101/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 504 ,  H01L 21/027
FI (8)：
G03F 7/039 601 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/36 ,  C08L101/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 504 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (31)：
2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC03 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J002BG031 ,  4J002BG071 ,  4J002BK001 ,  4J002EJ019 ,  4J002EL099 ,  4J002EN067 ,  4J002ER027 ,  4J002EU047 ,  4J002EU077 ,  4J002EU117 ,  4J002EU137 ,  4J002EU186 ,  4J002EU226 ,  4J002EV296 ,  4J002FD318 ,  4J002GP03
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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