ネガ型化学増幅レジスト組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：青木朗 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992000740
Publication number (International publication number)：1993181278
Application date： Jan. 07, 1992
Publication date： Jul. 23, 1993
Summary：

【要約】【目的】電離放射線の照射によるパターン形成において、解像性に優れ、かつパターン形状の良好なパターン形成に有用なネガ型化学増幅レジスト組成物を開発する。【構成】ネガ型化学増幅レジスト組成物を水素添加フェノール樹脂、ヘキサメトキシメチルメラミン含有率を高めたメラミン樹脂、電離放射線の照射により酸を発生する酸発生剤及び溶剤を主成分として構成する。

Claim (excerpt)：

水素添加フェノール樹脂、ヘキサメトキシメチルメラミン含有率を高めたメラミン樹脂、電離放射線の照射により酸を発生する酸発生剤及び溶剤を主成分として含有してなるレジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/038 505 , G03F 7/004 503 , G03F 7/029 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平3-107162
特開平3-075652
特開平3-248969

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