X線マスク

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高田守
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992113476
Publication number (International publication number)：1993315229
Application date： May. 06, 1992
Publication date： Nov. 26, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】可視光透過率をある程度確保しながら反射防止膜に平坦化、導電性、エッチングストッパなど他の機能を付与する。【構成】 X線透過性基板2の両側に異なる反射防止膜51、53を設たり少なくとも1面に多層の透明薄膜から成る反射防止膜を設け、それぞれの反射防止膜の屈折率nおよびniに対し、膜厚が式(1)、(2)を満足するようにする。

Claim (excerpt)：

X線透過性基板の両側に異なる反射防止膜を設けると共に、それぞれの反射防止膜の屈折率nに対し、膜厚が下式(1)でm値を0あるいは1とした式を概略満足するように構成したことを特徴とするX線マスク。【数1】

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03F 1/00 , G03F 1/16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開昭60-132323
特開平2-241019
X線露光用マスクおよびそのブランク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-278339 Applicant：凸版印刷株式会社

Show all

Return to Previous Page