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J-GLOBAL ID:200903055837302883

反射防止フィルム、偏光板および画像表示装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003396747
Publication number (International publication number):2005157037
Application date: Nov. 27, 2003
Publication date: Jun. 16, 2005
Summary:
【課題】 内部が多孔質または空洞であるシリカ系微粒子を含有する低屈折率層を層構成として含むことで反射率をより低減した、膜強度、ムラ、膜表面の防汚性に優れた、液晶表示装置用として使用するための反射防止フィルムを提供することにある。【解決手段】 透明フィルム上に活性エネルギー線硬化樹脂を主成分とするハードコート層を設け、ハードコート層上に直接または間接に少なくとも下記(A)、(B)、(C)の3成分を含有する屈折率が1.20〜1.42の範囲にある(低屈折率)層を設けたことを特徴とする反射防止フィルム。(A)多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層を有する複合粒子、或いは内部に溶媒、気体、または多孔質物質で充填された空洞粒子(B)バインダー成分(C)疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤【選択図】 なし
Claim (excerpt):
透明フィルム上に活性エネルギー線硬化樹脂を主成分とするハードコート層を設け、ハードコート層上に直接または間接に少なくとも下記(A)、(B)、(C)の3成分を含有する屈折率が1.20〜1.42の範囲にある(低屈折率)層を設けたことを特徴とする反射防止フィルム。 (A)多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層を有する複合粒子、或いは内部に溶媒、気体、または多孔質物質で充填された空洞粒子 (B)バインダー成分 (C)疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤
IPC (4):
G02B1/11 ,  B32B27/00 ,  G02B5/30 ,  G02F1/1335
FI (5):
G02B1/10 A ,  B32B27/00 Z ,  G02B5/30 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/1335 510
F-Term (68):
2H049BA02 ,  2H049BB65 ,  2H049BB66 ,  2H049BC22 ,  2H091FA01 ,  2H091FA08 ,  2H091FA31X ,  2H091FA37X ,  2H091FB02 ,  2H091FB13 ,  2H091FC18 ,  2H091FD15 ,  2H091KA01 ,  2H091LA03 ,  2H091LA07 ,  2H091LA08 ,  2K009AA04 ,  2K009AA12 ,  2K009AA15 ,  2K009BB11 ,  2K009CC09 ,  2K009CC24 ,  2K009CC26 ,  2K009CC42 ,  2K009CC47 ,  2K009DD02 ,  2K009DD05 ,  4F100AA17B ,  4F100AA17H ,  4F100AA19A ,  4F100AA19H ,  4F100AA25A ,  4F100AA25H ,  4F100AA28A ,  4F100AA28H ,  4F100AA29A ,  4F100AA29H ,  4F100AJ06A ,  4F100AK01A ,  4F100AK01B ,  4F100AK52C ,  4F100AK52H ,  4F100AK52K ,  4F100AL02C ,  4F100AL02H ,  4F100AS00C ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100BA15 ,  4F100CA18C ,  4F100CA22B ,  4F100CA30B ,  4F100CC00B ,  4F100DE01A ,  4F100DE01B ,  4F100DE01H ,  4F100DE04C ,  4F100DE04H ,  4F100GB41 ,  4F100JB14B ,  4F100JK12B ,  4F100JL06 ,  4F100JN01A ,  4F100JN06 ,  4F100JN18C ,  4F100YY00C
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3) Cited by examiner (5)
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