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J-GLOBAL ID:200903055922388983
成膜装置及び方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
酒井 宏明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004102331
Publication number (International publication number):2005281844
Application date: Mar. 31, 2004
Publication date: Oct. 13, 2005
Summary:
【課題】プラスチック等の被処理物内面への例えば炭素膜等を成膜する成膜装置及び方法を提供する。【解決手段】口部11を有する被処理物であるプラスチック容器12の内面に放電プラズマにより成膜を施す成膜装置であって、プラスチック容器12の外周を取り囲む大きさを有する外部電極13と、前記口部11が位置する側の前記外部電極13の端面に絶縁部材を介して取り付けられた排気管14と、前記外部電極13内の前記プラスチック容器12内に前記排気管14側から前記プラスチック容器12の長手のほぼ全長に亙って挿入され、接地G側に接続されると共に、媒質ガス15を吹き出すためのガス吹き出し孔16が穿設された内部電極17と、前記排気管14に取り付けられた図示しない排気装置と、前記内部電極17に媒質ガス15を供給するための図示しないガス供給装置と、前記外部電極13に接続された高周波電源18とを具備してなる。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
口部を有する被処理物内面に放電プラズマにより成膜を施す成膜装置であって、
被処理物の外周を取り囲む大きさを有する外部電極と、
前記口部が位置する側の前記外部電極の端面に絶縁部材を介して取り付けられた排気管と、
前記外部電極内の前記被処理物内に前記排気管側から前記被処理物の長手のほぼ全長に亙って挿入され、接地側に接続されると共に、媒質ガスを吹き出すためのガス吹き出し孔が穿設された内部電極と、
前記排気管に取り付けられた排気装置と、
前記内部電極に媒質ガスを供給するためのガス供給装置と、
前記外部電極に接続された高周波電源とを具備してなり、
前記高周波電源の周波数を低くし、放電プラズマのシース長(L)と口部の半径(D/2)とがD/2≦Lの関係を有してなることを特徴とする成膜装置。
IPC (3):
C23C16/505
, B65D23/02
, B65D25/14
FI (3):
C23C16/505
, B65D23/02 Z
, B65D25/14 Z
F-Term (22):
3E060BC04
, 3E060BC08
, 3E060DA20
, 3E060DA25
, 3E060EA03
, 3E062AA09
, 3E062AC02
, 3E062AC05
, 3E062JA01
, 3E062JA07
, 3E062JB24
, 3E062JD01
, 4K030AA09
, 4K030BA28
, 4K030CA07
, 4K030CA16
, 4K030FA01
, 4K030JA03
, 4K030JA09
, 4K030JA18
, 4K030KA30
, 4K030LA24
Patent cited by the Patent:
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