Pat

J-GLOBAL ID：200903055991745321

プラズマ処理装置および処理方法

Inventor： 田中 潤一 ,  橘内 浩之 ,  西尾 良司 ,  菅野 誠一郎 ,  山本 秀之
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000289303
Publication number (International publication number)：2002100611
Application date： Sep. 22, 2000
Publication date： Apr. 05, 2002
Summary：

【要約】【課題】プラズマ処理装置の状態変化を正確に捉える監視システムを提供する。【解決手段】試料を処理する処理チャンバ1を有するプラズマ処理装置において、チャンバ内部の処理状態を検出し複数の出力信号を出力する状態検出手段と、信号フィルタを集めたデータベース10から信号フィルタ選択手段11により任意の数の信号処理フィルタを取り出して構成され任意の数の装置状態信号を生成する信号変換部9a、9bとを備え、前記信号変換部において前記出力信号から該出力信号より少ない数の時系列を持つ前記装置状態信号を生成することを特徴とするプラズマ処理装置。

Claim (excerpt)：

試料を処理する処理チャンバを有するプラズマ処理装置において、チャンバ内部の処理状態を検出し複数の出力信号を出力する状態検出手段と、信号フィルタを集めたデータベースから信号フィルタ選択手段により任意の数の信号処理フィルタを取り出して構成され任意の数の装置状態信号を生成する信号変換部とを備え、前記信号変換部において前記出力信号から該出力信号より少ない数の時系列を持つ前記装置状態信号を生成することを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (6)：

H01L 21/3065 ,  B01J 19/08 ,  C23C 16/52 ,  C23F 4/00 ,  H05H 1/00 ,  H05H 1/46

FI (6)：

B01J 19/08 H ,  C23C 16/52 ,  C23F 4/00 A ,  H05H 1/00 A ,  H05H 1/46 A ,  H01L 21/302 E

F-Term (34)：

4G075AA03 ,  4G075AA24 ,  4G075AA42 ,  4G075AA51 ,  4G075AA65 ,  4G075BA02 ,  4G075BC06 ,  4G075BD14 ,  4G075CA47 ,  4G075DA01 ,  4G075DA04 ,  4G075EB01 ,  4G075EB41 ,  4G075EC01 ,  4G075EC25 ,  4K030FA01 ,  4K030JA18 ,  4K030KA39 ,  4K030KA41 ,  4K057DA19 ,  4K057DA20 ,  4K057DB06 ,  4K057DD01 ,  4K057DE11 ,  4K057DM40 ,  5F004AA13 ,  5F004AA16 ,  5F004CB02 ,  5F004CB04 ,  5F004CB05 ,  5F004CB06 ,  5F004CB09 ,  5F004DA00 ,  5F004DB01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• プラズマエッチング装置のエッチングモニタ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-279683   Applicant：株式会社日立製作所
• ドライエッチングの終点検出方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-096962   Applicant：株式会社リコー