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J-GLOBAL ID：200903056143547125

レジスト材料

Inventor： 畠山 潤 ,  西 恒寛 ,  永田 岳志 ,  名倉 茂広
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998195065
Publication number (International publication number)：1999084639
Application date： Jun. 25, 1998
Publication date： Mar. 26, 1999
Summary：

【要約】【解決手段】 下記一般式(1)又は(2)(式中、R1、R2、R3、R7、R8はC1〜C20のアルキレン基、R4、R5、R6、R9、R10はH、C1〜C20のアルキル基又はアミノ基を示し、R4とR5、R5とR6、R4とR6、R4とR5とR6、R9とR10は結合して環を形成してもよい。k、m、nは0〜20の整数を示す。但し、k、m、n=0のとき、R4、R5、R6、R9、R10はHを含まない。)で示される塩基性化合物の1種又は2種以上を含有することを特徴とするレジスト材料。【化1】【効果】 上記塩基性化合物を配合したレジスト材料によれば、レジストの膜減り防止効果が高く、孤立パターンのフォーカスマージン拡大効果が高いものである。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)及び(2)で示される塩基性化合物の1種又は2種以上を含有することを特徴とするレジスト材料。【化1】(式中、R1、R2、R3、R7、R8はそれぞれ独立して直鎖状、分岐状又は環状の炭素数1〜20のアルキレン基、R4、R5、R6、R9、R10は水素原子、炭素数1〜20のアルキル基又はアミノ基を示し、R4とR5、R5とR6、R4とR6、R4とR5とR6、R9とR10はそれぞれ結合して環を形成してもよい。k、m、nはそれぞれ0〜20の整数を示す。但し、k、m、n=0のとき、R4、R5、R6、R9、R10は水素原子を含まない。)

IPC (4)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-135254   Applicant：住友化学工業株式会社
• フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-158332   Applicant：住友化学工業株式会社