フォトレジスト組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：久保山隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997135254
Publication number (International publication number)：1998326015
Application date： May. 26, 1997
Publication date： Dec. 08, 1998
Summary：

【要約】【課題】残膜率、塗布性、耐熱性などの諸性能に優れ、特に感度、解像度、プロファイルおよびタイム・ディレイ耐性に優れた化学増幅型のポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】アルカリに対して不溶性または難溶性の状態から、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂(A)、酸発生剤(B)および、エーテル結合を有する3級アミン化合物(C)の各成分を含有するポジ型フォトレジスト組成物。【効果】環境による影響を受けにくく、また感度、解像度およびプロファイルに優れ、高精度で微細なフォトレジストパターンを与える。

Claim (excerpt)：

アルカリに対して不溶性または難溶性の状態から、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂(A)、酸発生剤(B)および、エーテル結合を有する3級アミン化合物(C)を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 503

FI (2)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 503 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-150243 Applicant：株式会社東芝
感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-079113 Applicant：株式会社東芝
ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-305113 Applicant：東京応化工業株式会社

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