熱電子発生源およびそれを備えるイオンビーム照射装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：山本恵二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003055765
Publication number (International publication number)：2004134354
Application date： Mar. 03, 2003
Publication date： Apr. 30, 2004
Summary：

【課題】傍熱方式のものであって、熱電子引き出しの際の空間電荷制限を緩和して、低エネルギーの熱電子を大量に発生させることができる熱電子発生源を提供する。【解決手段】このイオンビーム照射装置を構成する熱電子発生源10は、他から加熱されて熱電子28を放出する面状の主陰極24と、主陰極24をその背後から加熱して熱電子28を放出させるフィラメント20と、主陰極24の前方近傍に設けられていて主陰極から放出された熱電子28を電界によって引き出す引出し電極26と、引出し電極26の前方近傍の左右に引出し電極26を挟むように配置された二つの偏向電極30、32とを備えている。両偏向電極30、32の電位は、一方の偏向電極30の電位をVL 、他方の偏向電極32の電位をVR としたとき、VL >VR ≧0の関係に保たれる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

他から加熱されて熱電子を放出する面状の主陰極と、この主陰極をその背後から加熱して熱電子を放出させるフィラメントと、前記主陰極の前方近傍に設けられていて当該主陰極から放出された熱電子を電界によって引き出す引出し電極と、この引出し電極の前方近傍の左右に引出し電極を挟むように配置された二つの偏向電極であって、その一方の電位をVL 、他方の電位をVR としたとき、VL >VR ≧0の関係に保たれる偏向電極とを備えることを特徴とする熱電子発生源。

IPC (1)：

H01J37/317

FI (1)：

H01J37/317 Z

F-Term (2)：

5C030BB02 , 5C034CC13

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

特開平4-032568
特開平2-054858
特開平4-144049

Show all

Return to Previous Page