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J-GLOBAL ID:200903056583976141
高分子化合物およびその製造方法と使用法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
石井 陽一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001086128
Publication number (International publication number):2002284862
Application date: Mar. 23, 2001
Publication date: Oct. 03, 2002
Summary:
【要約】【課題】 新規な電子受容性の高分子化合物と、その製造方法および使用法を提供する。【解決手段】 下記式(1)で示される構造を主鎖内に持つ高分子化合物。【化17】[式(1)において、X1およびX2は、各々、同一でも異なるものであってもよく、ベンゼン環を構成する炭素、またはピリジン環を構成する窒素を表す。R1およびR2は、各々、同一でも異なるものであってもよく、置換基を表す。kはX1およびX2がベンゼン環を構成するときは0、1、2または3であり、ピリジン環を構成するときは0、1または2である。Yは、5〜7員のヘテロ環を完成させるための原子または原子群を表す。]
Claim (excerpt):
下記式(1)で示される構造を主鎖内に持つ高分子化合物。【化1】[式(1)において、X1およびX2は、各々、同一でも異なるものであってもよく、ベンゼン環を構成する炭素、またはピリジン環を構成する窒素を表す。R1およびR2は、各々、同一でも異なるものであってもよく、置換基を表す。kはX1およびX2がベンゼン環を構成するときは0、1、2または3であり、ピリジン環を構成するときは0、1または2である。Yは、5〜7員のヘテロ環を完成させるための原子または原子群を表す。]
IPC (3):
C08G 61/12
, H01M 4/60
, H05B 33/14
FI (3):
C08G 61/12
, H01M 4/60
, H05B 33/14 B
F-Term (16):
3K007AB18
, 3K007DA00
, 3K007DB03
, 3K007EB00
, 3K007FA01
, 4J032BA09
, 4J032BA12
, 4J032BB01
, 4J032BC03
, 4J032CG01
, 4J032CG03
, 5H050BA15
, 5H050CB22
, 5H050CB25
, 5H050CB26
, 5H050HA11
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (16)
-
特開平3-285916
-
特開昭63-037119
-
有機EL素子用化合物および有機EL素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-220571
Applicant:山本隆一, ティーディーケイ株式会社
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