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J-GLOBAL ID:200903056583976141

高分子化合物およびその製造方法と使用法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 石井 陽一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001086128
Publication number (International publication number):2002284862
Application date: Mar. 23, 2001
Publication date: Oct. 03, 2002
Summary:
【要約】【課題】 新規な電子受容性の高分子化合物と、その製造方法および使用法を提供する。【解決手段】 下記式(1)で示される構造を主鎖内に持つ高分子化合物。【化17】[式(1)において、X1およびX2は、各々、同一でも異なるものであってもよく、ベンゼン環を構成する炭素、またはピリジン環を構成する窒素を表す。R1およびR2は、各々、同一でも異なるものであってもよく、置換基を表す。kはX1およびX2がベンゼン環を構成するときは0、1、2または3であり、ピリジン環を構成するときは0、1または2である。Yは、5〜7員のヘテロ環を完成させるための原子または原子群を表す。]
Claim (excerpt):
下記式(1)で示される構造を主鎖内に持つ高分子化合物。【化1】[式(1)において、X1およびX2は、各々、同一でも異なるものであってもよく、ベンゼン環を構成する炭素、またはピリジン環を構成する窒素を表す。R1およびR2は、各々、同一でも異なるものであってもよく、置換基を表す。kはX1およびX2がベンゼン環を構成するときは0、1、2または3であり、ピリジン環を構成するときは0、1または2である。Yは、5〜7員のヘテロ環を完成させるための原子または原子群を表す。]
IPC (3):
C08G 61/12 ,  H01M 4/60 ,  H05B 33/14
FI (3):
C08G 61/12 ,  H01M 4/60 ,  H05B 33/14 B
F-Term (16):
3K007AB18 ,  3K007DA00 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  4J032BA09 ,  4J032BA12 ,  4J032BB01 ,  4J032BC03 ,  4J032CG01 ,  4J032CG03 ,  5H050BA15 ,  5H050CB22 ,  5H050CB25 ,  5H050CB26 ,  5H050HA11
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (16)
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