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J-GLOBAL ID:201003066187107463
高分子化合物およびその製造方法と使用法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
長谷川 芳樹
, 黒木 義樹
, 三上 敬史
, 石坂 泰紀
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2010135344
Publication number (International publication number):2010248522
Application date: Jun. 14, 2010
Publication date: Nov. 04, 2010
Summary:
【課題】 新規な電子受容性の高分子化合物と、その製造方法および使用法を提供する。【解決手段】 下記式(1)で示される構造を主鎖内に持つ高分子化合物。[式(1)において、X1およびX2は、各々、同一でも異なるものであってもよく、ベンゼン環を構成する炭素、またはピリジン環を構成する窒素を表す。R1およびR2は、各々、同一でも異なるものであってもよく、置換基を表す。kはX1およびX2がベンゼン環を構成するときは0、1、2または3であり、ピリジン環を構成するときは0、1または2である。Yは、5〜7員のヘテロ環を完成させるための原子または原子群を表す。]【選択図】 なし
Claim (excerpt):
下記式(1)で示される構造を主鎖内に持つ高分子化合物。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (11):
4J032BA07
, 4J032BA12
, 4J032BB01
, 4J032BC03
, 4J032CG01
, 4J032CG03
, 5H050BA15
, 5H050CA20
, 5H050CB20
, 5H050HA02
, 5H050HA11
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (16)
-
特開平3-285916
-
特開昭63-037119
-
有機EL素子用化合物および有機EL素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-220571
Applicant:山本隆一, ティーディーケイ株式会社
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