露光方法及び投影露光装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992138982
Publication number (International publication number)：1993335204
Application date： May. 29, 1992
Publication date： Dec. 17, 1993
Summary：

【要約】【目的】照明光学系を大型化することなく、高解像度、かつ大焦点深度の投影露光を実現する。【構成】レチクル10の光源側にΔtだけ離して所定ピッチの回折格子パターン9Gを設け、パターン9Gから発生する±1次回折光L1 、L2 をレチクルパターン11に対して所定角度θだけ傾けて対称的に入射する。さらに、レチクル(ガラス基板)10に透過部(基板裸面部)11aと、この透過部11aを透過した光に対してその透過光の位相がπだけずれるとともに、エネルギー透過率が透過部11aの1/4程度以下となる半透過部11bとで構成されたパターン11を設ける。

Claim (excerpt)：

照明光学系からの照明光でマスクに形成されたパターンを照明し、該マスクのパターンの像を投影光学系を介して感光性基板に露光する方法において、前記マスクのパターンは、前記照明光に対する透過率がほぼ1である透過部と、該透過部を透過する照明光に対してほぼ(2n+1)π(nは整数)の位相差を与えるとともに、前記照明光に対する透過率が前記透過部の1/4程度以下である半透過部とで構成された微細パターンを含み、前記マスクのパターンの光源側に所定間隔だけ離して配置される偏向部材により、該偏向部材に入射する照明光の少なくとも一部を前記マスクのパターンに対して所定角度だけ偏向させることを特徴とする露光方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03F 1/08 , G03F 7/20 521

FI (3)：

H01L 21/30 311 L , H01L 21/30 301 P , H01L 21/30 311 W

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

特開2049-091662
マスクとそれを用いた投影露光方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-177816 Applicant：日本電信電話株式会社
パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-346042 Applicant：株式会社東芝

Cited by examiner (5)

特開2049-091662
特開2049-091662
特許第4890309号

Show all

Return to Previous Page