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J-GLOBAL ID:200903056809581862
アクティブマトリックス型液晶表示装置及びその製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
井上 一 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995142635
Publication number (International publication number):1996313726
Application date: May. 16, 1995
Publication date: Nov. 29, 1996
Summary:
【要約】【目的】 薄膜トランジスタ側基板にカラーフィルタ等を形成しながらも、工程数を少なくし製造歩留まりを高くすること。【構成】 カラーフィルタとして導電性のカラーレジスト206〜208が設けられ、このカラーレジスト206〜208が液晶表示装置の画素電極を兼ねる。この時カラーレジストをマスクにしてLPD法によりブラックマトリックスを形成してもよい。また導電性カラーレジストとドレイン領域との間のコンタクトをとるために導電層を設けてもよい。導電層は、ソース線と同一材料であることが望ましく、カラーレジストの周辺部に設けることが望ましい。また画素電極の上部に導電性着色層を形成し反射型の液晶表示装置とすることもでき、画素電極の上部にカラーレジストを形成しこのカラーレジストを用いて画素電極をパターニングすることもできる。更に画素電極パターニング用のレジストを用いてLPD法により保護膜となる絶縁膜を形成することもできる。
Claim (excerpt):
薄膜トランジスタを有する薄膜トランジスタ側基板と、対向電極を有する対向基板と、前記薄膜トランジスタ側基板及び前記対向基板に狭持される液晶素子とを含むアクティブマトリックス型液晶表示装置であって、カラー表示のためのカラーフィルタとして導電性の着色層が前記薄膜トランジスタ側基板に設けられ、該導電性着色層が、前記薄膜トランジスタにより選択駆動される画素電極を兼ねることを特徴とするアクティブマトリックス型液晶表示装置。
IPC (4):
G02B 5/20 101
, G02B 5/22
, G02F 1/1335 505
, G02F 1/136 500
FI (4):
G02B 5/20 101
, G02B 5/22
, G02F 1/1335 505
, G02F 1/136 500
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (20)
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アクティブマトリクス基板
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-347349
Applicant:ソニー株式会社
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薄膜の加工方法、容量素子の製造方法及び半導体装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-054187
Applicant:松下電器産業株式会社
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特開昭61-051128
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特開昭61-051128
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液晶表示用TFTアレイ基板の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-242971
Applicant:松下電器産業株式会社
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特開平4-238952
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特開平4-238952
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特開平4-238952
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カラーフィルタの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-194628
Applicant:東レ株式会社
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特開平4-075022
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反射型液晶表示装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-083704
Applicant:富士通株式会社
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カラーフィルタの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-056522
Applicant:大日本印刷株式会社
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特開昭61-051128
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特開平4-238952
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特開平4-075022
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特開昭61-051128
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特開昭61-051128
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特開平4-238952
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特開昭61-051128
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特開平4-238952
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