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J-GLOBAL ID：200903056898781098

メークアップ化粧料

Inventor：
西村 博睦

About 西村 博睦

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西方 和博

About 西方 和博

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石神 政道

About 石神 政道

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中村 直生

About 中村 直生


Applicant, Patent owner：
ポーラ化成工業株式会社

About ポーラ化成工業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996255430
Publication number (International publication number)：1998077211
Application date： Sep. 05, 1996
Publication date： Mar. 24, 1998
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 メークアップ化粧料に於いて、二酸化チタン等の金属酸化物が紫外線エネルギーを吸収した際に発生するラジカルを抑制した化粧料を提供する。【課題の解決手段】 シソ科植物エッセンスをメークアップ化粧料に含有させる。シソ科植物としては、ミント又はセージが好ましく、中でもメンタ・スピカータとメンタ・アクワチカの掛け合わせミントのエッセンスとサルビア・オフィシナリス・バール・ラチフォリアとサルビア・オフィシナリス・バール・アルバの掛け合わせセージのエッセンスが好ましい。エッセンスとしては50%エタノール抽出物をイオン交換カラム(ダイアイオンHP-20)で精製するのが好ましい。
Claim (excerpt)：
シソ科植物のエッセンスを含有することを特徴とする、メークアップ化粧料。
IPC (3)：
A61K 7/00 ,  A61K 7/02 ,  A61K 7/42
FI (3)：
A61K 7/00 K ,  A61K 7/02 Z ,  A61K 7/42
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (16)
  • 化粧料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-141451   Applicant：株式会社資生堂
  • 紫外線防止化粧品組成物及びその製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-319297   Applicant：東海産業株式会社
  • ムコ多糖類断片化抑制剤、活性酸素消去剤、抗酸化剤および化粧料。
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-196230   Applicant：株式会社ナリス化粧品
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