化学蒸着用の有機ルテニウム化合物及び該有機ルテニウム化合物を用いた化学蒸着方法

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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：特許業務法人田中・岡崎アンドアソシエイツ
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006275215
Publication number (International publication number)：2008094728
Application date： Oct. 06, 2006
Publication date： Apr. 24, 2008
Summary：

【解決課題】リアクタントガスとなる酸素の共存を要せず、かつ、常温で液体の取扱い性、リサイクル性に優れた化学蒸着用の有機ルテニウム化合物を提供する。【解決手段】本発明は、化学蒸着法によりルテニウム薄膜又はルテニウム化合物薄膜を製造するための有機ルテニウム化合物において、次式で示される、ルテニウムにアレーン基及びノルボルナジエンが配位した有機ルテニウム化合物である。(式中、アレーン基の置換基であるR1〜R6は水素又はアルキル基である。更に、R1〜R6の炭素数の合計(R1+R2+R3+R4+R5+R6)は6以下である。)【選択図】なし

Claim (excerpt)：

化学蒸着法によりルテニウム薄膜又はルテニウム化合物薄膜を製造するための有機ルテニウム化合物において、次式で示される、ルテニウムにアレーン基及びノルボルナジエンが配位した有機ルテニウム化合物。

IPC (4)：

C07F 15/00 , C23C 16/18 , H01L 21/285 , H01L 21/28

FI (4)：

C07F15/00 A , C23C16/18 , H01L21/285 C , H01L21/28 301R

F-Term (11)：

4H050AA01 , 4H050AB84 , 4H050AC90 , 4H050WB11 , 4H050WB21 , 4K030AA11 , 4K030BA01 , 4K030LA15 , 4M104BB04 , 4M104BB36 , 4M104DD45

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

ビス(アルキルシクロペンタジエニル)ルテニウム錯体の製造方法およびそれを用いたルテニウム含有薄膜の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-225493 Applicant：株式会社高純度化学研究所

Cited by examiner (2)

CVD用原料化合物及びルテニウム又はルテニウム化合物薄膜の化学気相蒸着方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-116054 Applicant：田中貴金属工業株式会社
ルテニウム膜形成用組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-369809 Applicant：株式会社高純度化学研究所

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

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