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J-GLOBAL ID：200903057110586385

塗布・現像処理システム

Inventor：
飽本 正巳

About 飽本 正巳


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 高山 宏志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998039789
Publication number (International publication number)：1999233421
Application date： Feb. 06, 1998
Publication date： Aug. 27, 1999
Summary：
【要約】【課題】 さらに高集積化が進んだ場合であっても、回路パターンの正確な線幅を得ることができると共に、歩留まりを一層向上できる塗布・現像処理システムを提供すること。【解決手段】 塗布処理ユニット(COT)と現像処理ユニット(DEV)とを、搬送装置11,18を間に挟んで対向して配置しているため、塗布処理ユニット(COT)と現像処理ユニットと(DEV)を確実に分離でき、塗布処理ユニット(COT)でアミン等のアルカリ成分が生成されることがあっても、このアルカリ成分が現像処理ユニット(DEV)に流入することを確実に防止できる。
Claim (excerpt)：
基板を搬送する搬送装置の周囲に、基板に塗布処理、現像処理およびこれらの前後処理を施す複数の処理ユニットが配置された塗布・現像処理システムであって、前記塗布処理ユニットと現像処理ユニットとが、前記搬送装置を間に挟んで対向して配置されていることを特徴とする塗布・現像処理システム。
IPC (6)：
H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/68
FI (7)：
H01L 21/30 564 C ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/02 Z ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 569 C
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
  • 処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-212857   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
  • 特開平4-305914
  • 板状体の処理装置及び搬送装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-108769   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
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Cited by examiner (9)
  • 処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-212857   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
  • 特開平4-305914
  • 特開平4-305914
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