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J-GLOBAL ID：200903057119302916

画像形成方法、多層配線基板及びこれに用いられる多層フィルム

Inventor：
田中 光利

About 田中 光利


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 中島 淳 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999172421
Publication number (International publication number)：2001005178
Application date： Jun. 18, 1999
Publication date： Jan. 12, 2001
Summary：
【要約】【課題】 微細なビアホールの接続不良を改善する。【解決手段】 一方の面から半分の厚みまでの平均光学濃度分率が、他方の面の半分の厚みまでの平均光学濃度分率の1.2倍から500倍であり、平均光学濃度分率の低い方の面がその上にメッキ層を保持することが可能である樹脂絶縁層の平均光学濃度分率が低い方の面から光を照射して画像を形成する。
Claim (excerpt)：
一方の面から半分の厚みまでの平均光学濃度分率が、他方の面から半分の厚みまでの平均光学濃度分率の1.2倍から500倍であり、平均光学濃度分率の低い方の面がその上にメッキ層を保持することが可能である樹脂絶縁層の平均光学濃度分率が低い方の面から光を照射して画像を形成することを特徴とする画像形成方法。
IPC (3)：
G03F 7/004 512 ,  G03F 7/40 521 ,  H05K 3/46
FI (3)：
G03F 7/004 512 ,  G03F 7/40 521 ,  H05K 3/46 T
F-Term (34)：
2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AB15 ,  2H025AB17 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC31 ,  2H025DA11 ,  2H025DA20 ,  2H025DA21 ,  2H025DA40 ,  2H025FA17 ,  2H025FA43 ,  2H096AA27 ,  2H096BA05 ,  2H096CA01 ,  2H096EA02 ,  2H096EA04 ,  2H096HA27 ,  5E346AA12 ,  5E346AA16 ,  5E346AA38 ,  5E346AA43 ,  5E346BB01 ,  5E346CC08 ,  5E346DD02 ,  5E346DD03 ,  5E346EE31 ,  5E346FF04 ,  5E346GG15 ,  5E346HH07
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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