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J-GLOBAL ID：200903057236952948

オゾン水製造装置、オゾン水製造装置を用いた洗浄装置及びオゾン水製造装置を用いた水質改善装置

Inventor：
長谷川 可賀

About 長谷川 可賀


Applicant, Patent owner：
有限会社ガリュー

About 有限会社ガリュー


Agent (7)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005165227
Publication number (International publication number)：2006334552
Application date： Jun. 06, 2005
Publication date： Dec. 14, 2006
Summary：
【課題】 オゾン水の製造効率や濃度を向上することができるとともに、必要な時に即座にオゾン水を得ることができるオゾン水製造装置と、このオゾン水製造装置を用いた洗浄装置、並びに、前記オゾン水製造装置を用いた水質改善装置を提供する。【解決手段】 オゾン発生装置37から供給されたオゾンガスを水に溶解させてオゾン水を製造するオゾン水製造装置において、オゾンガスの雰囲気中に微粒子化した水を噴射するノズル本体19を設けたことを特徴とする。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
オゾン発生装置から供給されるオゾンガスを水に溶解させてオゾン水を製造するオゾン水製造装置において、 オゾンガスの雰囲気中に微粒子化した水を噴射する微粒子化手段を設けたことを特徴とするオゾン水製造装置。
IPC (6)：
B01F 5/20 ,  B01F 1/00 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/08 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/78
FI (12)：
B01F5/20 ,  B01F1/00 A ,  B08B3/02 E ,  B08B3/08 Z ,  C02F1/50 510A ,  C02F1/50 520C ,  C02F1/50 520L ,  C02F1/50 531R ,  C02F1/50 540B ,  C02F1/50 550C ,  C02F1/50 550D ,  C02F1/78
F-Term (10)：
3B201AA31 ,  3B201BB21 ,  3B201BB92 ,  4D050AA03 ,  4D050AA10 ,  4D050AB06 ,  4D050BB02 ,  4D050BD03 ,  4G035AA01 ,  4G035AC37
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (7)
  • オゾン気泡を含むオゾン水の生成装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-129706   Applicant：日新化成工業株式会社
  • オゾン水処理装置及び洗浄処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-207221   Applicant：芝浦メカトロニクス株式会社
  • 特開昭63-171694
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