Pat
J-GLOBAL ID:200903057244458189

表面処理剤、表面処理粉体及び化粧料

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): ▲高▼野 俊彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006029728
Publication number (International publication number):2007210903
Application date: Feb. 07, 2006
Publication date: Aug. 23, 2007
Summary:
【課題】粉体に優れた疎水性が付与させるとともに、その洗い流し性を著しく改善し、さらに粉体の分散性を著しく向上させる新規な表面処理剤を提供すること。皮膚に塗布したときに透明性が高く、かつ使用感触がなめらかな表面処理粉体及びこれを配合する化粧料を提供すること。【解決手段】 下記一般式(1)で示されるモノマー(A)を構成モノマーとして含有し、該モノマーがリビングラジカル重合によって重合されたポリマーからなることを特徴とする表面処理剤。(式中、R1は水素又は炭素数1〜3のアルキル基、R2は炭素数4〜22のアルキレン基、X1は-NH-基又は酸素原子、M1は水素又は1価の金属原子を表す。)【選択図】なし
Claim (excerpt):
下記一般式(1)で示されるモノマー(A)を構成モノマーとして含有し、該モノマーがリビングラジカル重合によって重合されたポリマーからなることを特徴とする表面処理剤。
IPC (12):
A61K 8/88 ,  A61K 8/29 ,  A61K 8/25 ,  A61K 8/19 ,  A61Q 17/04 ,  A61Q 1/12 ,  A61Q 1/02 ,  A61Q 1/06 ,  A61Q 1/10 ,  A61Q 1/04 ,  C08F 20/56 ,  C09C 3/10
FI (12):
A61K8/88 ,  A61K8/29 ,  A61K8/25 ,  A61K8/19 ,  A61Q17/04 ,  A61Q1/12 ,  A61Q1/02 ,  A61Q1/06 ,  A61Q1/10 ,  A61Q1/04 ,  C08F20/56 ,  C09C3/10
F-Term (119):
4C083AA082 ,  4C083AA112 ,  4C083AA122 ,  4C083AB032 ,  4C083AB152 ,  4C083AB171 ,  4C083AB172 ,  4C083AB212 ,  4C083AB222 ,  4C083AB231 ,  4C083AB232 ,  4C083AB241 ,  4C083AB242 ,  4C083AB282 ,  4C083AB312 ,  4C083AB332 ,  4C083AB362 ,  4C083AB432 ,  4C083AB442 ,  4C083AC012 ,  4C083AC022 ,  4C083AC072 ,  4C083AC092 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC132 ,  4C083AC172 ,  4C083AC212 ,  4C083AC242 ,  4C083AC262 ,  4C083AC302 ,  4C083AC342 ,  4C083AC352 ,  4C083AC372 ,  4C083AC392 ,  4C083AC422 ,  4C083AC432 ,  4C083AC442 ,  4C083AC482 ,  4C083AC532 ,  4C083AC542 ,  4C083AC582 ,  4C083AC642 ,  4C083AC662 ,  4C083AC692 ,  4C083AC712 ,  4C083AC792 ,  4C083AC842 ,  4C083AC852 ,  4C083AC912 ,  4C083AD022 ,  4C083AD042 ,  4C083AD071 ,  4C083AD072 ,  4C083AD091 ,  4C083AD092 ,  4C083AD112 ,  4C083AD152 ,  4C083AD162 ,  4C083AD172 ,  4C083AD212 ,  4C083AD222 ,  4C083AD252 ,  4C083AD262 ,  4C083AD272 ,  4C083AD302 ,  4C083AD332 ,  4C083AD342 ,  4C083AD352 ,  4C083AD412 ,  4C083AD492 ,  4C083AD512 ,  4C083AD532 ,  4C083AD572 ,  4C083AD642 ,  4C083AD662 ,  4C083BB25 ,  4C083BB33 ,  4C083CC01 ,  4C083CC02 ,  4C083CC03 ,  4C083CC05 ,  4C083CC12 ,  4C083CC13 ,  4C083CC14 ,  4C083CC31 ,  4C083CC33 ,  4C083DD01 ,  4C083DD05 ,  4C083DD17 ,  4C083DD21 ,  4C083DD22 ,  4C083DD23 ,  4C083DD27 ,  4C083DD31 ,  4C083DD39 ,  4C083EE01 ,  4C083EE05 ,  4C083EE06 ,  4C083EE07 ,  4C083EE11 ,  4C083EE17 ,  4C083FF01 ,  4J037AA29 ,  4J037CC11 ,  4J037CC16 ,  4J037EE02 ,  4J037EE12 ,  4J037FF15 ,  4J100AM17P ,  4J100AM21Q ,  4J100BA16P ,  4J100BA56Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100DA01 ,  4J100FA04 ,  4J100FA08 ,  4J100JA61
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (9)
Show all
Cited by examiner (8)
Show all

Return to Previous Page