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J-GLOBAL ID：200903057307340434

記録媒体の製造方法、記録媒体製造用原盤の製造方法、記録媒体の製造装置、および記録媒体製造用原盤の製造装置

Inventor：
木島 公一朗

About 木島 公一朗

, 
河内山 彰

About 河内山 彰


Applicant, Patent owner：
ソニー株式会社

About ソニー株式会社


Agent (1)： 松隈 秀盛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000057372
Publication number (International publication number)：2001250279
Application date： Mar. 02, 2000
Publication date： Sep. 14, 2001
Summary：
【要約】【課題】 微細凹凸の形成において用いるレーザ光の光学限界のスポットより充分小さい幅もしくはトラックピッチを有する微細凹凸の形成を、微細凹凸の長短に影響されることなく正確に形成する。【解決手段】 記録媒体あるいは記録媒体製造用原盤を構成する基板上に、感熱材料層12を形成する工程と、この感熱材料層に、レーザ光を目的とする微細凹凸のパターンに応じたパターンに照射して感熱材料層に目的とする微細凹凸に応じたパターンの変質部12sを形成する工程と、この感熱材料層12を現像してこの感熱材料層をパターン化する工程とを採って目的とする微細凹凸パターンを形成するものであるが、特にそのレーザ光照射において、微細凹凸の周期よりも高周波の周波数で変調されたレーザ光照射によって行うことにより、微細凹凸の長短に依存しないパターンを形成することができるようにする。
Claim (excerpt)：
微細凹凸を有する記録媒体の製造方法であって、上記記録媒体を構成する基板上に、感熱材料層を形成する工程と、該感熱材料層に、レーザ光を上記微細凹凸のパターンに応じたパターンに照射して上記感熱材料層に上記微細凹凸に応じたパターンの変質部を形成する工程と、上記感熱材料層を現像して該感熱材料層をパターン化する工程とを有し、上記レーザ光のパターン照射を、上記微細凹凸パターンの周期よりも高周波の周波数に変調されたレーザ光照射としたことを特徴とする記録媒体の製造方法。
IPC (4)：
G11B 7/26 501 ,  G11B 7/26 511 ,  G11B 7/26 531 ,  G11B 7/0045
FI (4)：
G11B 7/26 501 ,  G11B 7/26 511 ,  G11B 7/26 531 ,  G11B 7/0045 A
F-Term (22)：
5D090AA01 ,  5D090BB01 ,  5D090CC01 ,  5D090DD01 ,  5D090EE02 ,  5D090KK04 ,  5D090KK05 ,  5D121AA01 ,  5D121BA05 ,  5D121BB18 ,  5D121BB26 ,  5D121BB33 ,  5D121BB38 ,  5D121CA03 ,  5D121CA07 ,  5D121CB03 ,  5D121CB05 ,  5D121CB08 ,  5D121EE04 ,  5D121EE26 ,  5D121EE28 ,  5D121GG04
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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