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J-GLOBAL ID：200903057326804140

プラズマ発生装置及びこのプラズマ発生装置を使用した表面処理装置

Inventor： 寒川 誠二 ,  塚田 勉 ,  中川 行人 ,  篠原 己拔 ,  上山 寛幸
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社 ,  アネルバ株式会社 ,  日本高周波株式会社
Agent (1)： 保立 浩一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996177361
Publication number (International publication number)：1998012396
Application date： Jun. 18, 1996
Publication date： Jan. 16, 1998
Summary：

【要約】【課題】 電子温度の低い高密度プラズマを発生させるとともにアンテナのスパッタによる基板汚損を防止し、アンテナ面に平行な面内で均一性の高いプラズマを発生させて均一性の高い良質で高速の表面処理を可能にする。【解決手段】 排気系12及びガス導入系13を備えたプラズマ発生容器1は一部が比誘電率εS の誘電体部14であり、誘電体部14を通してプラズマ発生容器1内に放射するアンテナがプラズマ発生容器1外に配置されている。アンテナは、互い違いに配置された放射状のアンテナ素子52,54から構成されてインターディジタルフィルターを形成しており、プラズマ発生容器1はアンテナ素子52,54の長さ方向に平行な方向と両側で交差する側壁を有する。アンテナを挟んで誘電体部14とは反対側にシールド体6が配設され、シールド体6とアンテナとの離間距離は、誘電体部14とアンテナとの離間距離に誘電体部14の厚みの1/εS 倍の値を加えた長さより短い。

Claim (excerpt)：

真空に排気することが可能であって内部にプラズマ発生用ガスが導入されるプラズマ発生容器と、このプラズマ発生容器の外部に配置されたアンテナと、所定の周波数の高周波電力を与えてアンテナを励振する高周波電源とを具備したプラズマ発生装置であって、前記プラズマ発生容器は、誘電体からなる誘電体部によって一部又は全部が形成されており、前記アンテナは、当該誘電体部を通してプラズマ発生容器内に高周波電界を誘導する位置に配置されているとともに、プラズマ発生容器内のプラズマに向かう方向に対して垂直な方向に長いアンテナ素子から形成され、プラズマ発生容器は、当該アンテナ素子の長さ方向に平行な方向と両側で交差する側壁をそれぞれ有していることを特徴とするプラズマ発生装置。

IPC (5)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (5)：

H05H 1/46 B ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• プラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-122978   Applicant：日本電気株式会社, 日本高周波株式会社, 日電アネルバ株式会社
• 特開平4-362091