Pat
J-GLOBAL ID：200903057385502386
傾斜コラムを有する荷電粒子装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997324673
Publication number (International publication number)：1998172484
Application date： Nov. 26, 1997
Publication date： Jun. 26, 1998
Summary：
【要約】【課題】 チャンバの剛性、重量要因、チャンバの内面からのガス放出による汚染、および装置の処理量を改善することができる荷電粒子ビーム装置、例えば走査型電子顕微鏡を提供する。【解決手段】 荷電粒子ビーム装置は、試料を支持するための支持体を備えている。この支持体の法線は、垂直方向(垂線)の一方の側に所定の第1角度をなす姿勢を含む所定範囲の姿勢にわたってウェーハ支持体を傾斜させるため、傾斜機構が設けられている。荷電粒子ビームコラムは、ステージの法線に対して垂直方向(垂線)の反対側に第2角度だけ傾斜しており、このため、ステージの法線に対する試料上へのビームの入射角度は、第1角度と第2角度との和である。支持体は、姿勢範囲の他端で所定の姿勢に傾斜させることができる。この姿勢では、支持体の法線はコラムの軸線と平行であり、このためビームは試料に対して垂直方向にある。第1限度角度および第2限度角度は好ましくは30°に等しく、このため試料上へのビームの最大入射角度は60°に等しい。
Claim (excerpt)：
半導体ウェーハの一部の画像を生成するための走査型電子顕微鏡等の荷電粒子装置において、前記半導体ウェーハを支持するのに適合したウェーハ支持体と、前記ウェーハ支持体を回転させるための、前記ウェーハ支持体に作動的に連結された回転手段と、前記ウェーハ支持体を少なくとも2つの異なる方向に移動させるための、前記ウェーハ支持体に作動的に連結された位置決め手段と、前記半導体ウェーハが前記ウェーハ支持体上に配置されているときに、前記半導体ウェーハの上面と一致する平面内にある傾斜軸線のまわりに前記ウェーハ支持体を傾斜させるための、前記ウェーハ支持体に作動的に連結された傾斜手段であって、第1方向に配置された第1傾斜位置と、前記第1方向と反対方向の第2方向に配置された第2傾斜位置と、前記第1傾斜位置と前記第2傾斜位置との間に配置された非傾斜位置との間で前記ウェーハ支持体を傾斜させる傾斜手段と、前記ウェーハ支持体、前記回転手段、前記位置決め手段および前記傾斜手段を収容するためのハウジングと、電子ビームを発生するための電子光学コラムであって、前記ウェーハ支持体が前記非傾斜位置にあるときに、前記ウェーハ支持体に垂直な法線に対して0°でない角度をなす電子ビームを発生するよう前記ウェーハ支持体に対して傾斜するとともに、前記電子ビームは前記半導体ウェーハと平行な平面に対して少なくとも約30°の入射角度で前記半導体ウェーハに入射する、前記ハウジング内の所定位置に配置された電子光学コラムと、前記ウェーハ支持体によって支持された前記半導体ウェーハから、前記半導体ウェーハと平行な平面に対して前記入射角度と異なる検出角度で放出された放射線を検出するための検出器とを備えたことを特徴とする、傾斜コラムを有する荷電粒子装置。
IPC (4)：
H01J 37/16
, H01J 37/15
, H01J 37/20
, H01J 37/28
H01J 37/16
, H01J 37/15
, H01J 37/20 D
, H01J 37/28 B
Cited by examiner (10)
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