スパッタ成膜法およびスパッタ装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：田宮寛祉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996216607
Publication number (International publication number)：1998046331
Application date： Jul. 30, 1996
Publication date： Feb. 17, 1998
Summary：

【要約】【課題】セラミックスターゲットを用いるスパッタ成膜法において、新しいターゲットをスパッタ室に取り付ける際、装置メンテナンスのためターゲットを大気に曝した際に膜特性が安定するまで行われるダミーデポの行程を短縮または省略できるスパッタ成膜法およびスパッタ装置を提供する。【解決手段】化合物薄膜の当該元素から成るセラミックスをターゲット11として用い、スパッタリング現象を利用して成膜する方法であり、ターゲットを成膜処理室に配置した後であって成膜を開始する前に、成膜処理室を真空排気しながら、ターゲットを加熱する。ターゲットの加熱を行うので、ターゲットに吸着し吸蔵された水を放出させることができ、これにより、形成される膜に与える水の影響が抑制される。

Claim (excerpt)：

化合物薄膜を構成する元素から成るセラミックスをターゲットとするスパッタ成膜法において、前記ターゲットを成膜処理室に配置した後であって成膜を開始する前に、前記成膜処理室を真空排気しながら、前記ターゲットを加熱することを特徴とするスパッタ成膜法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

特開平2-166274
特開平2-166274
窒化アルミニウム薄膜の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-115483 Applicant：財団法人ファインセラミックスセンター

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