荷電粒子線装置

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：井上学
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005336461
Publication number (International publication number)：2007141741
Application date： Nov. 22, 2005
Publication date： Jun. 07, 2007
Summary：

【課題】本発明は、試料上に不純物を付着させることなく、試料を取り扱うことが可能な荷電粒子線装置を提供することを目的とするものである。【解決手段】以上のような目的を達成するために、真空室内にて移動する移動部材の摺動部分に潤滑剤を塗布した走査型電子顕微鏡において、当該潤滑剤として、低分子成分が除去されたものを採用する。これによって、試料汚染を抑制することが可能となり、試料測定後のプロセスにおける不良発生の抑制が可能となる。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

荷電粒子線が照射された試料から放出される荷電粒子を検出する検出器と、前記荷電粒子線が照射される試料を包囲する真空室を備えた荷電粒子線装置において、前記真空室内に配置される摺動部材の摺動部に、真空内において80°C以上220°C以下の温度で加熱精製された潤滑剤が塗布されていることを特徴とする荷電粒子線装置。

IPC (1)：

H01J 37/20

FI (1)：

H01J37/20 D

F-Term (5)：

5C001AA08 , 5C001CC04 , 5C001CC05 , 5C001CC08 , 5C001DD01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

試料ステージ駆動機構
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-045247 Applicant：株式会社日立ハイテクノロジーズ
荷電粒子ビーム装置における有機ガス分子の除去方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-320058 Applicant：日本電子株式会社

Cited by examiner (6)

試料ステージ駆動機構
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-045247 Applicant：株式会社日立ハイテクノロジーズ
特開平2-216616
特開平4-068083

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