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J-GLOBAL ID：200903057716580242

微粒子配列体の製造方法

Inventor：
布施 晃広

About 布施 晃広


Applicant, Patent owner：
株式会社リコー

About 株式会社リコー


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001365120
Publication number (International publication number)：2003165099
Application date： Nov. 29, 2001
Publication date： Jun. 10, 2003
Summary：
【要約】【課題】 微粒子を精度よく規則的に配置する技術を提供する。【解決手段】 紫外線の照射によりフォトアブレーション現象を発現し得る材料を下地層2として基材1上に形成し、下地層2に紫外線ビームを照射して微粒子が嵌まり込む多数の孔5を形成した後、微粒子浮遊液体6を下地層2表面に撒布し、個々の孔5に微粒子を嵌め込む。
Claim (excerpt)：
紫外線の照射によりフォトアブレーション現象を発現し得る材料を下地層として基材上に形成する工程と、下地層に紫外線ビームを照射して微粒子が嵌まり込む多数の孔を形成する工程と、微粒子を浮遊させた状態の液体を下地層表面に撒布して前記の孔に微粒子を嵌め込む工程とを順次行なうことを特徴とする微粒子配列体の製造方法。
IPC (5)：
B81C 5/00 ,  B01J 19/12 ,  B81C 1/00 ,  G02B 6/12 ,  G02B 6/13
FI (7)：
B81C 5/00 ,  B01J 19/12 C ,  B01J 19/12 F ,  B81C 1/00 ,  G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 Z
F-Term (18)：
2H047KA03 ,  2H047LA18 ,  2H047PA05 ,  2H047PA06 ,  2H047QA02 ,  2H047RA08 ,  2H047TA41 ,  4G075AA30 ,  4G075BC06 ,  4G075BD16 ,  4G075CA33 ,  4G075DA13 ,  4G075EB32 ,  4G075FA02 ,  4G075FA05 ,  4G075FA12 ,  4G075FB12 ,  4G075FC13
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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