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J-GLOBAL ID：200903057878210627

低温乾式殺菌方法および装置

Inventor： 佐藤 岳彦 ,  藤井 修逸 ,  浦山 卓也 ,  志田 彰典 ,  ラマサミー ラズ ,  藤岡 万也 ,  中谷 達行
Applicant, Patent owner： 株式会社アドテック プラズマ テクノロジー ,  トーヨーエイテック株式会社
Agent (5)： 武石 靖彦 ,  村田 紀子 ,  徳岡 修二 ,  重本 博充 ,  大角 菜穂子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004290628
Publication number (International publication number)：2006102004
Application date： Oct. 01, 2004
Publication date： Apr. 20, 2006
Summary：

【課題】 小型で簡便な装置を用いて、安全かつ確実に殺菌を行うことができる低温殺菌法を提供する。【解決手段】 ガスボンベ(ガス供給源)8と、ガスボンベ8から供給されたガスを励起して、高エネルギー粒子を含む温度非平衡状態のガスを発生させる高エネルギー粒子発生部1〜3と、高エネルギー粒子発生部1〜3で発生した温度非平衡状態のガスを外部の病原微生物に噴射させるガス噴出部4を備える。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

ガスを励起して、高エネルギー粒子を含む温度非平衡状態のガスを発生させ、前記温度非平衡状態のガスを病原微生物に噴射することによって殺菌を行うことを特徴とする乾式殺菌方法。

IPC (1)：

A61L 2/14

FI (1)：

A61L2/14

F-Term (4)：

4C058AA01 ,  4C058BB06 ,  4C058DD07 ,  4C058KK06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 蒸気滅菌装置及びその運転方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-165824   Applicant：西山泰治
• 酸化エチレンガス滅菌装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-285772   Applicant：株式会社千代田製作所

Cited by examiner (3)

• プラズマ滅菌処理装置及びプラズマ滅菌処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-333134   Applicant：松下電工株式会社
• 大気圧低温プラズマ殺菌方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-232016   Applicant：四国化工機株式会社, 鯉沼秀臣, 内藤寿夫
• プラズマ殺菌装置および殺菌方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-139514   Applicant：アブトックスインコーポレイテッド